第二章薄膜制备技术基础要点.ppt

第二章 薄膜制备技术 薄膜制备工艺包括：薄膜制备方法的选择，基体材料的选择及表面处理，薄膜制备条件的选择，结构、性能与工艺参数的关系等。 第一节 基体的选择与基片的清洗方法 （一）基体的选择 在薄膜制备过程中，基体的选择与其他制备条件同样重要，有时可能更重要，基体选择的原则是： （1）是否容易成核和生长成薄膜； （2）根据不同的应用目的，选择金属 （或合金）、玻璃、陶瓷单晶和塑料等 作基体； （3）薄膜结构与基体材料结构要对应； （4）要使薄膜和基体材料的性能相匹配，从而减少热应力，不使薄膜脱落； （5）要考虑市场供应情况、价格、形状、尺寸、表面粗糙度和加工难易程度等。 （二）基片的清洗 1、概述 由于薄膜厚度很薄，基片表面的平整度、清洁度都会对所生长的薄膜有影响。基片表面的任何一点污物都会影响薄膜材料的性能和生长情况。由此可见，基片的清洗是十分重要的。 基片的清洗方法主要根据薄膜生长方法和薄膜使用目的选定，因为基片表面状态严重影响基片上生长出的薄膜结构和薄膜物理性质。 2、基片的清洗方法 一般分为去除基片表面上物理附着的污物的清洗方法和去除化学附着的污物的清洗方法。 目前，基片清洗方法有：用化学溶剂溶解污物的方法、超声波清洗法、离子轰击清洗法、等离子体清洗法和烘烤清洗法等。 第二节 真空技术基础 真空技术是制备薄膜的基础，真空蒸发，溅射镀膜和离子镀等均要求沉积薄膜的空间要有一定的真空度，因而获得并保持真空环境是镀膜的必要条件。 三、真空度的划分 为了研究真空和实际应用方便，常把真空划分为： 低真空（1×105~1×102Pa） 中真空（1×102~1×10-1Pa） 高真空（1×10-1~1×10-6Pa） 超高真空（1×10-6Pa）四个等级。 8.气体的吸附与脱附 气体吸附：是指固体表面捕获气体分子的现象。吸附分为物理吸附和化学吸附。 物理吸附：主要靠分子间的相互吸引力，易脱附，只在低温下有效。 化学吸附：当气体和固体表面原子间生成化合物时，所产生的吸附作用。不易脱附，可发生在高温下。 9.电子碰撞气体引起的电离 电子能量较低：不会引起气体原子（分子）的状态发生变化。 能量较高：引起气体原子（分子）的激发或电离。 激发：部分价电子跃迁到较高的能级。 电离：一个或多个价电子脱离原子或分子的过程。 10.气体的流动状态 三种流动状态 湍流，层流，分子流 湍流：当气体压强和流速都比较高时，流动呈现不稳定状态，宏观流速矢量有径向分量．气体流动受到较大的阻力，通常称这种流动状态为湍流或者旁流。 11.蒸发和凝结 （1）蒸发和凝结 蒸发：由固相和液相转变为气相的过程。 凝结：由气相转变为固相和液相的过程。 （2）蒸汽和气体 由P-V线可知：存在临界温度Tc， 工作温度低于Tc，气体加压可变成液体，此时的气体称为可凝 性气体（蒸汽） 工作温度高于Tc，气体加压不可变成液体，此时的气体称为永久 性气体（简称为气体） 在本课程中定义的蒸汽和气体 凡临界温度高于室温（15℃~25 ℃）的气相，称为蒸汽 其特征是在室温下加压可液化。如水蒸气，金属蒸汽 凡临界温度低于于室温（15℃~25 ℃）的气相，称为气体 其特征是在室温下加压不可液化。如氢气，氮气 以上分类的主要原因是 :蒸汽加压液化，液体减压气化会对 系统的真空度产生影响。 （3）饱和蒸汽和不饱和蒸汽 饱和蒸汽：汽液平衡共存时的蒸汽。 非饱和蒸汽：单一蒸汽存在。 饱和蒸汽不符合理想气体物态方程，但符合克 拉珀龙方程。 不饱和蒸汽符合理想气体物态方程。 第四节.抽真空和抽真空设备 一、 抽真空 是利用各种真空泵将被抽容器中的气体抽出，使该空间的压强低于一个大气压的过程。 可有多种方法实现抽真空 真空泵：抽真空的装置 3.抽真空和抽真空设备 二、真空泵 目前常用的真空泵主要有：旋转式机械真空泵、油扩散泵、复合分子泵、分子筛吸附泵、钛升华泵、溅射离子泵和低温泵等。前三种属于气体传输泵，后四种属于气体捕获泵。 能使压力从一个大气压力开始变小，进行排气的泵常称为“前级泵”；另一些却只能从较低压力抽到更低压力，这些真空泵常称为“次级泵”。 （1）旋转式机械真空泵 机械泵：凡是利用机械运动以获得真空的泵，因用油来进行密封，所以属于有油类泵。 原理：利用机械力连续抽气、压缩排除气体。 第四节 真空测量一、概述 测量原理均是利用测定在低气压下与压强有关的某些物理量，再经变换后确定容器的压强。 当压强改变时，这些和压强有关的特性也随之变化的物理现象，就是真空测量的基础。 任何具体的物理特性，都是在某一压强范围才最显著。因此，任何方法都有其一定的测