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宝山壁画 宝山壁画是引人注目的昂贵文物。此壁画发现于阿鲁科尔沁旗东沙布乡境内。1994年列为“全国十大考古新发现”之一。宝山壁画中最引人注目的是《杨贵妃教鹦鹉图》。该画高0.7米、宽2.3米，用于笔重彩绘制，最突出的表现了 晚唐风格。唐代擅长绘贵妇仕女的大师周昉绘制了《杨贵妃教鹦鹉图》，不仅享誉中原，而且还影响全国各地。发现于阿旗宝山古墓里的这幅画，就是契丹人聘请中原画家按照周氏风格绘制的， 技法深得周氏画风的真传。在唐人真迹稀如星风的今天，能够从中完整了解唐代人物画的杰出成就，堪称美术史研究的辛事。这幅壁画现今保存在阿鲁科尔沁旗博物馆，历经千年，恍如新绘，是该馆的镇馆之宝。 欢迎大家观看！ * * * * 多组份玻璃光纤制造通常使用“双坩埚法”。将纤芯用的玻璃料加入铂制双坩埚的内侧坩埚中，同时将包层用的玻璃料加入此双坩埚的外侧坩埚中， 边熔炼边拉丝。要是在芯料中引入Ta+而在包层料中引入Na+，则能使光纤中心部分的折射率高于周边部分。若想制成折射率呈平方分布的不均匀光纤，可在拉丝过程中通过热扩散进行Ta+与Na+的离子交换，而使折射率呈徐缓的梯度分布，并控制拉丝后的温度下降。双坩埚法中，不需像制备石英玻璃光纤那样有一道制造光纤预制棒的预备性工序，可以按1~3m/s的高速拉丝，一次即拉成光纤，因而产量大，成本经济，但是光纤的损耗较大，最低值约5dB/km。 * * 世界上第一根损耗小于20dB/km光纤是由康宁公司按照外部汽相氧化法获得 * * 1977年日本开发。不容易形成中心的折射率凹陷和空眼。目前仍然是日本人掌握着这个方法的核心技术。 VAD法是由日本在1977年发展的一种最早以连续工艺制造预制棒的方 法。其工作原理与OCVD法基本相同，但沉积方向由横向改为轴向。这样，可使沉积工艺，脱水烧结工艺连续进行，理论上可制得极长的预制棒， 而且，该法制备的多模光纤不会形成中心部位折射率凹陷或空眼，因此 其光纤制品的带宽比MCVD法高一些，其单模光纤损耗目前达到0.22-0.4dB／km。 光纤的折射率分布决定于原料气体的空间径向分布，故各种工艺参数要 十分稳定，控制难度较大。此工艺开发初期由于采用火焰加水分解，容易残留有OH基，制成的光纤比起MCVD法制成的光纤有较大损耗。但经过改良， 发展了在多孔质状态下进行脱水处理的技术，已经获得比MCVD法更优良的 低损耗特性。 目前，日本仍然掌握着VAD法的最先进的核心技术，所制得的光纤预 制棒OH基含量非常低，在1385nm附近的损耗小于0.46dB／km。 * * * * PCVD法是由菲利普研究实验室提出的，于1978年应用于批量生产。它与 MCVD法的工作原理基本相同，只是不用氢氧焰进行管外加热，而是改用微波 腔体产生的等离子体进行加热。PCVD法工艺的沉积温度低于MCVD法工艺的沉积温度，因此反应管不易变形。由于气体电离不受反应管热容量的限制，所以微波加热腔体可以沿着反应管轴向作快速来回移动，目前的移动速度在8m／min， 可以在管内沉积数千个薄包层，从而使每层的沉积厚度减小，因此使光纤折射率分布的控制更为精确，可以获得更大的带宽。而且，PCVD法的沉积效率高，沉积速度快，有利于消除包层沉积过程中的微观不均匀性，从而大大降低光纤中散射造成的本征损耗，适合于制备具有复杂折射率剖面的光纤，可以批量生产，有利于降低成本。 目前，荷兰的等离子光纤公司占据世界领先水平。 * * * 光线中的子午线和斜射线 * 模式色散的计算——几何光学 ① ② 包层n2 芯区n1 ① 传输最快的子午线 ② 传输最慢的子午线 对于①，单位长度光纤传输的时延： 对于② ，单位长度光纤传输的时延： 多模光纤的模式色散为： 仅考虑子午线的情况 常用单位是ps/km * 时间延迟 根据图2.4，入射角为θ的光线在长度为L(ox)的光纤中传输，所经历的路程为l(oy)， 在θ不大的条件下，其传播时间即时间延迟为 式中c为真空中的光速。由式(2.4)得到最大入射角(θ=θc)和最小入射角(θ=0)的光线之间时间延迟差近似为 (2.4) (2.5) 这种时间延迟差在时域产生脉冲展宽，或称为信号畸变。 由此可见，突变型多模光纤的信号畸变是由于不同入射角的光线经光纤传输后，其时间延迟不同而产生的。 * 时间延迟 * 渐变型多模光纤具有能减小脉冲展宽、增加带宽的优点。 渐变型光纤折射率分布的普遍公式为 式中，n1和n2分别为纤芯中心和包层的折射率， r和a分别为径向坐标和纤芯半径，Δ=(n1-n2)/n1为相对折射率差，g为折射率分布指数 g→∞， (r/a)→0的极限条件下，式(2.6)表示突变型多模光纤的折射率分布 g=2，n(r)按平方律(抛物线)变化