摩擦学-离子镀.pptxVIP

离子镀技术制备减磨耐磨层及其摩擦磨损机理报告人：××导师：×××日期：20××-×-×主要内容离子镀原理离子镀的分类离子镀技术制备的减磨耐磨层的摩擦磨损机理2一、离子镀原理离子镀膜技术（简称离子镀）是美国Sandia公司的D.M.Mattox于1963年首先提出来的，是在真空蒸发和真空溅射技术基础上发展起来的一种新的镀膜技术。离子镀的英文全称ionplating，简称IP。它是在真空条件下，应用气体放电实现镀膜，即在真空室中使气体或被蒸发物质电离，在气体离子或被蒸发物质离子的轰击下，同时将蒸发物或反应产物蒸镀在基片上。3一、离子镀原理右图是离子镀技术原理示意图，当真空室抽到10-3~10-4pa后，通入惰性气体使真空度达到1pa~3pa，接通高压偏压电源，在蒸发源和工件之间产生辉光放电，获得的高能惰性气体离子和原子轰击工件表面，将表面吸附的残余气体和污染层溅射下来，形成氩离子的轰击净化作用。4一、离子镀原理随后，开启蒸发源形成蒸发材料蒸气，蒸发的粒子进入等离子体区，并与等离子体区的高能电子非弹性碰撞而被部分电离；被电离的蒸发材料离子和惰性气体离子受到工件负偏压的吸引，以较高的能量到达工件，并沉积成膜。离子镀成膜过程中所需的能量不是靠加热方式获得的，而是由于电离碰撞以及离子被电场加速获得的，其能量比真空蒸发镀时大得多。5 与真空蒸发镀膜相比，离子镀膜层质量具有以下特点：离子镀膜的膜—