第六章 结型场效应晶体管 6.1 pn结场效应晶体管(JFET) 6.2 金属-半导体场效应晶体管(MESFET) 参考书 1.集成电路器件电子学(第三版)Device Electronics for Integrated Circuit Richard S. Muller, Theodore I. Kamins, Mansun Chan 著王燕,张莉译 许军审效, 电子工业出版社p184--190页 2.晶体管原理,刘永 张福海编著,国防工业出版社,2002.1,p273-303 6.1 pn结场效应晶体管(JFET) 6.1.1 JFET器件基本工作原理 6.1.2 JFET器件器件类型和代表符号 6.1.3 JFET器件分析--源极接地,漏极上加小的偏压VD 6.1.4 JFET器件分析--源极接地,漏极上加大的偏压VD 6.1.5 JFET参数 6.1.1 JFET器件基本工作原理 源极向沟道提供多数载流子。 沟道:栅极的耗尽区和衬底pn结耗尽区之间的中性区。衬底通常接地。 n沟道JFET中漏极正偏,电流通过沟道从漏极流向源极。 如果将源极接地,同时在栅极上加负偏压,pn界的耗尽区将扩大,沟道变窄,沟道电阻增加,导致从沟道流向源端的电流减小,栅极上外加偏压可以控制沟道中的电流。 p 沟道JFET中电流从源端流向漏端。 因为只有少量的电流流向反偏pn结,所以
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