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;第四讲 硅热法炼镁;■ 硅热法炼镁的基本原理;基于的反应:
2(MgO.CaO)十Si 2Mg十2CaO.SiO2
;●MgO还原的热力学原理
必须使用对氧亲和力大于镁对氧亲和力的物质作为还原剂才行。
图1-1中绘出了一系列氧化物标准吉布斯自由能与温度的关系曲线。; 从上面图可知:各种氧化物的△G值均随温度的变化而变化,但变化的方向与幅度各不相同,有些曲线的相互位置都发生了变化。
从图还可推知,只有在温度超过2373℃以后,SiO2的稳定性才会高于MgO的,才能发生如下反应:
; 从前面知道,用硅还原氧化镁时,如果常压则温度必须超过2373℃,这在实际中实现起来很难,并且在此高温下,SiO2与MgO会反应生成硅酸镁 。; 从前面知道,常压下还原MgO的温度超过2373℃,当有CaO存在时,还原温度可降至1750℃,这么高温度在工业上实现起来有相当难度。
那么,如果将常压改为真空状态,会怎么样?右图是某些物质在不同真空度下吉布斯自由能与温度的变化关系。; 就反应:2MgO+Si=2Mg+SiO2而言,MgO、Si 、SiO2均为固态,其活度为1,此时,吉布斯自由能的表达式为——
△G=△G0+RTlnpMg
当反应中 pMg <101.325pa时, RTlnpMg为负值, △G < △G0这有利于将反应的温度降低。
所以,硅热法炼镁,一般是在真空条件下进行。
;■ 硅热法炼镁的原料与燃料;1) 原料;1) 原料;2) 燃料;■ 炼镁效率的影响因素分析;右图为p=1716.2×105Pa,配硅比=1.1时在不同的时间下,镁的还原效率与硅利用率随着温度变化而变化,图中虚线为镁的还原效率,实线为硅的利用率。此外还标注了时间为1-2h时镁的还原效率与硅的利用率的数值。; 上图表明:
○随着温度的升高,在同一还原时间内,还原效率和硅的利用率都有不同程度的提高。在低温区域内,镁的还原效率和硅的利用率与温度的关系近似为直线,曲线的斜度较大,也就是说,在低温区域内,同一时间内镁的还原效率与硅的利用率增加更为明显。
○当温度超过1150℃以后,还原效率与硅利用率增加较少,曲线趋于平缓。为了达到较高的镁的还原效率与硅的利用率,温度必须高于1150℃,但是,当温度超过1200℃以后,同一时间内的还原效率与硅的利用率增加也不多,由于还原罐的材质在高温下抗氧化的性能较小,故温度不能超过1200℃;所以,硅热法炼镁过程,最合适的还原温度范围是1150-1180℃,在这一反应温度范围内,镁的还原效率实验值可达93%-95%(还原时间为2h),工业生产中镁的还原效率可达85%以上(还原时间为8h),硅的利用率可达87%-88%(实验值),工业生产中硅的利用率可达70%—75%。为了达到同样的还原效率,如果还原时间较短,则需更高的还原温度和进一步降低还原体系中的剩余压力(1—3Pa)o;在一定的还原温度与体系的剩余压力下,增加还原时间,可以使热传递的深度增大,还原反应彻底,从而,镁的产出率高,硅的利用率也高。右图在1100 ℃ 、1150℃、1200 ℃ 三种温度下,不同还原时间内镁的还原效率与硅的利用率变化。图中的虚线为镁的还原效率,实线为硅的利用率。; 上图表明,随着反应时间的延长,镁的还原效率和硅的利用率随之增加。在反应开始阶段,镁的还原效率和硅的利用率增加较快,曲线的斜率也较大。随着反应的进行,开始时反应速度很快,后来反应速度急剧减小,当反应进行一定时间后,曲线的斜率几乎为零,即反应速度近于零。由此表明,还原反应进行一段时间后,反应速度很慢,再延长反应时间已经没有意义了。对于不同的还原温度,达到最大镁的还原率的时间不同,1200℃时约为1.5h(实验值),工业生产时为7.6h,1150℃时约为1.75h(实验值),工业生产时为8.5h。; 从图中还可以看出,提高还原温度比延长还原时间更能增加产量和提高硅的利用率。但是在生产上由于还原罐材质受到影响,不能用提高还原温度来缩短还原周期(即缩短还原时间)达到高产的目的。这样做势必缩短了还原罐的寿命。所以在低于1180℃温度下还原可适当延长还原时间,但是绝对不能用提高温度、缩短还原时间来提高镁的还原效率和硅的利用率。;3) 制球压力;还原过程中反应式:
2(MgO.CaO)十Si 2Mg十2CaO.SiO2
其配硅比(M)为Si/2MgO=1
此时镁的产出率一定,而硅的利用率最大。如果增大配硅比,则镁的产出率增大,硅的利用率降低,所以对硅热法炼镁而言,镁的产出率随配硅比的增加
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