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《当代物理前沿》小论文
题目:薄膜的制备与检测
学院: 理学院
班级: 应用物理学2012级1班
姓名: 李生武
学号: 2012518066
日期: 2015 年 11 月 1 日
石河子大学理学院物理系制
薄膜的制备与检测
一.镀膜设备
采用日本 ANELVA 公司 SPC-350 多靶磁控溅射仪制备,SPC-350 多靶磁控溅射仪的外观及真空室结构如图 1.1 所示。该溅射仪安装有一个直流阴极(DC)和两个可独立控制的射频阴极(RF)。基片架位于三个阴极中间并可围绕腔体中心轴转动。
图1.1 ANELVASPC350 多靶磁控溅射仪外观(a)及真空室结构(b)
实验基片采用单晶Si 和不锈钢。基片表面的污染严重影响所制备的薄膜的质量和性能,本实验中对基片采用超声波清洗,先用丙酮进行超声波清洗,以去除基片表面的有机物,然后用酒精进行两次超声波清洗。将清洗好的基片快速烘干,装入真空室。
硅钛 HYPERLINK /cpro/ui/uijs.php?adclass=0app_id=0c=newscf=1001ch=0di=8fv=17is_app=0jk=38b9d4aaa569beak=%B1%A1%C4%A4k0=%B1%A1%C4%A4kdi0=0luki=10n=10p=baiduq=baidusiteerror_cprrb=0rs=1seller_id=1sid=ea9b56aa4a9d8b03ssp2=1stid=0t=tpclicked3_hctu=u1615258u=http%3A%2F%2Femuch%2Enet%2Fhtml%2F201205%2F4467881%2Ehtmlurlid=0 \t _blank 薄膜
设备名称:? ? ? ? 高真空多靶磁控溅射镀膜机设备型号:? ? ? ? JCP-350主要技术指标真空腔室? ? ? ? φ350 mm×H400mm; HYPERLINK /cpro/ui/uijs.php?adclass=0app_id=0c=newscf=1001ch=0di=8fv=17is_app=0jk=38b9d4aaa569beak=%D5%E6%BF%D5%CF%B5%CD%B3k0=%D5%E6%BF%D5%CF%B5%CD%B3kdi0=0luki=5n=10p=baiduq=baidusiteerror_cprrb=0rs=1seller_id=1sid=ea9b56aa4a9d8b03ssp2=1stid=0t=tpclicked3_hctu=u1615258u=http%3A%2F%2Femuch%2Enet%2Fhtml%2F201205%2F4467881%2Ehtmlurlid=0 \t _blank 真空系统? ? ? ? 复合 HYPERLINK /cpro/ui/uijs.php?adclass=0app_id=0c=newscf=1001ch=0di=8fv=17is_app=0jk=38b9d4aaa569beak=%B7%D6%D7%D3%B1%C3k0=%B7%D6%D7%D3%B1%C3kdi0=0luki=7n=10p=baiduq=baidusiteerror_cprrb=0rs=1seller_id=1sid=ea9b56aa4a9d8b03ssp2=1stid=0t=tpclicked3_hctu=u1615258u=http%3A%2F%2Femuch%2Enet%2Fhtml%2F201205%2F4467881%2Ehtmlurlid=0 \t _blank 分子泵+直联旋片泵, HYPERLINK /cpro/ui/uijs.php?adclass=0app_id=0c=newscf=1001ch=0di=8fv=17is_app=0jk=38b9d4aaa569beak=%C6%F8%B6%AFk0=%C6%F8%B6%AFkdi0=0luki=1n=10p=baiduq=baidusiteerror_cprrb=0rs=1seller_id=1sid=ea9b56aa4a9d8b03ssp2=1stid=0t=tpclicked3_hctu=u1615258u=http%3A%2F%2Femuch%2Enet%2Fhtml%2F201205%2F4467881%2Ehtmlurlid=0 \t _blank 气动真空 HYPERLINK /cpro/ui/uijs.php?adclass=0app_id=0c=newscf=1001ch=0di=8fv=17is_app=0jk=38b9d4aaa569beak=%B7%A7%C3%C5k
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