《工业催化原理》第七单元环保催化和光催化教材.ppt

第六节 光催化基础 2、有机污染物光催化降解 根据半导体光催化过程，受光激发的半导体催化剂表面可以同时产生电子-空穴对实现氧化和还原两个反应。这样吸附到半导体光催化剂表面的有机物或无机离子就得到光激发产生的空穴的氧化反应或电子的还原反应，从而实现这些物种的氧化降解或还原消除。 目前，光催化氧化降解有机物包括烷烃、烯烃、卤代烃、醇、羧酸、氯代苯、卤代苯酚、表面活性剂、染料以及一些含氮含磷的有机物、农药、杀虫剂除草剂等。它们氧化降解最终产物包括CO2、H2O、一些小分子脂肪烃、醇、酮、酸等以及PO43-、NH4+、Cl-、NO3-等无机离子。 有机物的光催化氧化包括直接氧化和间接氧化两种，吸附在催化剂表面的有机污染物可以从受光激发的半导体价带上直接得到光生空穴，发生直接氧化反应；如果受激发的半导体催化剂表面吸附氧作为电子捕获剂把转移走光激发的电子，或H2O被光生空穴氧化，它们都可以产生具有高度活性的羟基自由基·OH，这种羟基自由基会不断进攻有机污染物分子，使其一步氧化最终生成CO2和H2O，这是光催化间接氧化过程。 3、金属离子的光催化还原 理论上讲任何一种金属离子只要其还原电位比半导体催化剂的导带边正，就有可以从导带上得到光激发产生的电子发生还原。在金属离子得到电子还原的同时，水或者其它电子给体得到价带上的空穴发生氧化反应，生成O2或其它相关氧化物。目前对金属离子的光催化还原研究主