电子显微镜浅析.pptxVIP

材料微观形貌学研究;材料微观形貌学 材料微观形貌学是材料微结构研究的一部分，是在单个粒子尺度上研究组成材料的各个粒子大小、形状、组分，以及在微组构尺度上研究组成材料各单个粒子聚集成物质的方式，如各粒子的分布、位置、取向、及相互的关系，杂质、孔、缝的存在形式、形状、大小、数量及在空间的分布，等等。;3;4;5;显微镜的种类;原子力显微镜（AFM）;一、透射电子显微镜（TEM）;透射电镜发展简史;到1895年，光学显微镜经历了230多年的改进，已经达到了非常完善的程度。 从分辨率上来讲，它已经达到了极限分辨率，已经接近它的理论极限200nm。 ;到1895年，光学显微镜经历了230多年的改进，已经达到了非常完善的程度。 从分辨率上来讲，它已经达到了极限分辨率，已经接近它的理论极限200nm。 ;到1895年，光学显微镜经历了230多年的改进，已经达到了非常完善的程度。 从分辨率上来讲，它已经达到了极限分辨率，已经接近它的理论极限200nm。 ;?; 既然是光源限制了显微镜的放大倍数和分辨率的发展，人们自然会想到：要想提高显微镜的放大倍数和分辨率，就应该更换波长更短的光源。 随着人们对电磁波的认识，人们了解到：在一定的电压下电子束的波长可以达到零点几个纳米，使用电子束做为光源，显微镜的分辨率就可能提高几个数量级。;?; 电子显微镜所用加速电压都较高，电子运动的速度与光速相比已不可忽略，需考虑相对论效应。经相对论修正且带入物理常数后：;加速电压（kV）; 1926年德国科学家Garbor和Busch发现用铁壳封闭的铜线圈对电子流能折射聚焦，既可作为电子束的透镜。 1932年德国科学家厄恩斯特·鲁斯卡等人在前面两个发现的基础上研制出第一台TEM;1.电子光学基础;20;1-2.静电透镜和磁透镜;电子在磁场中运动受到洛伦兹力： Fm=（e/c）[v?H] 式中v是电子运动的速度矢量，H是磁场强度矢量。该作用力的大小 Fm=（e/c）?v?H?sin(v?H) 方向始终垂直于v和H所成的平面。Fm⊥v，Fm不改变速度大下，只改变方向。;1-3.电子散射与成像;24;一些样品的TEM照片;2、透射电镜成像原理;27;透射电子显微镜构造原理;?;3、透射电子显微镜的主要性能指标;主要性能一：分辨率;主要性能二：放大倍数;;;4、透射电镜样品的制备;4-1 直接法;粉末颗粒状材料可通过悬浮法分散后直接观察。悬浮法是将粉末状材料分散在一种不与材料起化学反应的溶剂中，必要时可通过例如超声波的方法加强颗粒的分散。然后捞到支持膜上。支持膜放在载样铜网上。支持膜对电子透明性好，不显示本身结构，并且有一定的强度，受电子轰击不易损坏。这样的试样观察图像显示的主要是颗粒外形的边缘。根据不同颗粒中不同的信息（原子序数、厚度、密度），图像也可有些深浅的层次。 ;38;4-2 间接法---复型法;按复型的制备方法，复型主要分为：;一级复型;二级复型;二、扫描电子显微镜（SEM）;特点 ;特点;; 入射电子与试样相互作用，除产生二次电子外，还可产生背散射电子、吸收电子、透射电子、俄歇电子、X射线及阴极荧光等信号，如图2.9所示．经相应的探测器接受放大后，可获得由各种不同信号形成的图像，如二次电子像、吸收电子像、背散射电子和俄歇电子像等由于上述各种信号在试样中的散射范围不同，所以分辨率也不同．在加速电压为20~30kV时，二次电子的分辨率约为几纳米，x光像的分辨率在微米的范围，背散射电子像的分辨率在两者之间 应用入射电子与试样相互作用，产生的各种信号可对试祥进行综合结构分析。特别是通过X射线谱仪测定自试样发出的特征X射线谱，可进行微区化学成分的定性定量分析。;?二次电子：电子束从物质表面以下50?处激发出原子中的电子，称为二次电子，能量只有几十电子伏特。 ?背散射电子：电子束和物质表面一下0.1~1??m处的原子中的电子相撞，电子不断改变方向从而与入射方向相反的方向射出，能量的损失很小，只损失几十电子伏特，叫做背散射电子。 ?透射电子：试样厚度为1??m以下时，入射电子穿透物质而射出，为透射电子，其能量依非弹性碰撞的次数而有所损失。 ?俄歇电子：电子束在物质表面以下几?处激发出具有特征能量的二次电子，为俄歇电子。 ? X-射线：电子束能量足够大而从物质表面以下0.5~5??m范围的深度处激发出具有一定能量的x-射线。 阴极荧光：在发光材料表面激发出来的课件光或红外光，称为阴极荧光，为长波光。;扫描电镜的主要性能; 电子显微镜的图像分辨率是指在特定情况下拍摄的图像上可分辨的两个特征物（颗粒或区域）之间的最小距离，以nm表示。 影响扫描电镜分辨