全定制设计——共源共栅放大器精编.docVIP

实践教学要求与任务: 设计一个共源共栅放大器，满足如下要求： （1）电路面积最优； （2）； （3）增益A=60；（）； （）采用gpdk0.18通用工艺库； （）完成全部流程：设计规范文档、原理图输入、功能仿真、基本单元版图、整体版图、物理验证等。1-2天：讲解题目，准备参考资料，检查、调试实验软硬件，进入设计环境，开始设计方案和验证方案的准备； 第3-5天：完成设计，经指导老师验收后进入模块电路设计（验收设计文档）； 第6-9天：完成模块电路代码输入，并完成代码的仿真（验收代码与仿真结果）； 第 9-10天：约束设计，综合（验收约束与综合结果）； 第11-12天：布局布线，完成版图（验收版图结果）； 第13-14天：物理验证、后仿真，修改设计（验收物理验证结果和时序仿真结果）； 第15天：整理设计资料，验收合格后进行答辩。 摘 要 本次课程设计利用全定制设计流程完成了一个，所有设计是在cadence公司IC5141工具下完的，IC5141工具主要包括集成平台design frame work II、原理图编辑工具virtuoso schematic editor、仿真工具spectre、版图编辑工具virtuoso layout editor、以及物理验证工具diva。（Composer、ICStudio/DesignArchitecture、Sedit、ViewDraw）SPICE网表，模拟设计环境；设计验证（Hspice、Spectre、Eido、SmartSpice）（Virtuso、ICStation、Ledit、Laker、CosmosLE）PDK；关于版图验证则需要的是DRC/ERC/LVS/LPE(Dracula/Diva/Asura、Calibre、Herculus、Tanner、LakerTapeout。 关键字：virtuoso schematic editor；design frame work II；全定制； 摘 要 3 1 绪论 5 1.1 设计背景 5 1.2 设计目标 5 2 共源共栅放大器设计 5 2.1 创建设计库 5 2.2 电容设计 6 2.3 原理图设计 6 2.4 仿真电路设计 8 2.5 仿真波形. 9 3 版图编辑与物理验证 11 3.1 电容版图设计 11 3.2 版图编辑 12 3.3 DRC检查 13 3.4 LVS检查 14 4 总结 16 参考文献 17 1 绪论 设计背景 本次共源共栅放大器设计采用全定制设计平台cadence公司IC5141。IC5141工具主要包括集成平台design frame work II、原理图编辑工具virtuoso schematic editor、仿真工具、版图编辑工具virtuoso layout editor、以及物理验证工具diva等。着重介绍原理图编辑工具tanner和集成于ADE(Analog Design Environment)的仿真工具spectre。这里以cadence3.2版的180nm pdk为例介绍工具的配置与使用，可以了解并熟练的掌握相关知识，并合理的完成设计目标。 1. 2 设计一个共源共栅放大器，满足如下要求： （1）电路面积最优； （2）； （3）增益A=60；（）； （）采用gpdk0.18通用工艺库； （）完成全部流程：设计规范文档、原理图输入、功能仿真、基本单元版图、整体版图、物理验证等。 共源共栅放大器设计在ic5141中，设计的管理以库的方式进行。库管理器中包含有设计使用的工艺库和ic5141软件提供的一些元件库，如analogLib，basic等。用户在工作过程中建立的库也放在库管理器中。无论画电路图还是设计版图，都和建库有关，建电路图库的步骤如下。 （1）CIW界面点击File菜单，出现下拉菜单，选命令File，出现“New Library”对话框。 （2）在对话框Library的Name项中输入新库名mylib。在Technology File项中提示：“如果要在这个库中建立掩模版图或其他物理数据，需要技术文件”若只要用电路图或HDL数据，则不需要技术文件。 （3）由于新建库后面还将用于版图绘制，选第二个选项，即“Attach to an existing techfile”，单击“OK“按钮，选择工艺库gpdk180，点击“OK“按钮完成新库的建立。 2 电容设计 本次设计的电路仿真是在Linux环境下，使用cadence公司IC5141的原理图编辑工具virtuoso schematic editor进行仿真的，采用的是工艺库gpdk180工艺。 根据设计要求，为了满足AV=60，我们选择多晶硅电作为负载电。可得，NMOS管