激光诱导化学气相沉积法(LCVD)绪论.pptxVIP

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2017-05-07 发布于湖北
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激光诱导化学气相沉积法(LCVD)绪论.pptx

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激光诱导化学气相沉积法(LCVD); 气相沉积涂层技术是材料表面改性技术中的一个重要组成部分。由于激光具有高能量密度及良好的相干性能通过激光激活可使常规CVD技术得到强化。 LCVD已从最初的金属膜沉积发展到半导体膜、介质膜、非晶态膜以及掺杂膜等在内的各种薄膜材料的沉积。目前，应用连续CO2激光制取TiN膜、TiC膜及复合氮化钛膜已有报道。;一、激光化学气相沉积原理及特点;（2）热LCVD;二、LCVD实验装置;三、成膜特点;四、激光化学气相沉积的应用与发展;2、金刚石、纳米碳管与超硬膜,;3、介质膜;4、微电子薄膜领域;五、LCVD研究现状及发展