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Company Confidential Ver. Do not copy or distribute. Copyright 2010 CSOT CHINA STAR OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CHINA STAR OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CSOT-CONFIDENTIAL Company Confidential Ver. Do not copy or distribute. Copyright 2010 CSOT */N CHINA STAR OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CHINA STAR OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CSOT-CONFIDENTIAL Company Confidential Ver. Do not copy or distribute. Copyright 2010 CSOT CHINA STAR OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CHINA STAR OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CSOT-CONFIDENTIAL ACD 2012 年 9月 目 录 CF制程简介 制程工艺简介 Color Filter 彩色滤光片 以自然界的三原色进行混色, 并调整 其亮度(灰阶)来呈现不同的色彩 光罩 BM 玻璃 最初开发的方法，是在玻璃基板上先形成酪蛋白等膜，再用染料进行染色的染色法。由于 染色法所获膜层的耐光性差，因此这种方法被使用的颜料的颜料法所替代。除了颜料法外 还有印刷法。另外，作为新型方法，还有借由浆料喷射形成彩色滤光片的浆料喷射法和有 机材料电镀法。（１）着色感材法（２）染色法（３）转写法（４）电着法（５）印刷法 （６）INK JET法 使用的着色材料 颜料 染料染料 照相蚀刻法 光阻着色材料兼用型 颜料分散光阻法彩色滤光片转写法 图案染色法 光阻、着色材料分用型 颜料分散蚀刻法 光罩染色法染料溶解法 印刷法 颜料浆料印刷法 ----- 浆料喷射法 颜料浆料喷射法 染料浆料喷射法 有机材料电镀法 电沉积法 --------- 加工方法 着色方法 　(1)着色感材法 　　　(a)颜料分散法－ (DNP) ①玻璃基板 ②涂布?Pre-Bake ③露光 ④现像 ⑤Color Matrix Ｃｒ－ＢＭ （１５００?） 玻璃基板（0.7mm） Pigment Dispersion UV Curable Photoresist (Spin Coating) (Alkali solution) ITO膜厚； １５００? 着色膜厚：1.5μm (1)着色感材法 　　　(b)Etching法－(Toray) 玻璃基板 ＢＭ Positive Resist 着色POLYIMIDE Photomask ＵＶ Positive Resist 着色Polyimide ①玻璃基板 ②涂布?Pre-Bake ③露光 ④现像?Etching ⑤剥离 ⑥Color Matrix 玻璃基板 ＢＭ Gelatin感材 Photo-mask ＵＶ Gelatin感材 ①玻璃基板 ②涂布?Pre-Bake ③露光 ④现像（水洗） ⑤染色（酸性染料, 反应性染料） ⑥防染处理（Tannin） ⑦ Color Matrix (2)染色法 　(a)着色感材转写法（富士写真FILM） 保护Film 着色感材层（２μm） 酸素遮断层（1.5μm) Cussion层 (10μm) Basement Film (帯电防止处理) ①Coated Film ②Laminate (3)转写法 玻璃基板 ＢＭ Cussion层 酸素遮断层 着色感材层 Photomask ＵＶ ③露光 ④现像 ⑤Color Matrix 　　(b)溶融转写法 (USP5521035/ 3M) Basement Film (75μm) 光热変换层 (4μm) 着色感材层 (1.6μm) Basement Film 光热変换层 着色感材层 雷射光 ①着色Coated Film ②Laminate?雷射照射 ③剥离 ⑤Bake ④其余二色转写 ⑥Color Matrix (3)转写法 Negative Resist ＩＴＯ膜 玻璃基板 Photomask ①电极形成 ②露光 ③现像 ④Etching ⑤电着 (4)电着法 ①Ink转写 ②印刷 ③Leveling ④硬化 Blanket ＰＳ版（Ａｌ） (5)印刷法 玻璃基板 ＢＭ 玻璃基板 ＢＭ Ink Jet Nozzle ①玻璃基板 ②INK JET涂布 ③硬化 (6)INK JET法(CANON, EPSON) Method Dying Pri