Fe-Si化合物薄膜的晶体结构(本科毕业论文)概述.doc

本科毕业论文（设计） 论文（设计）题目：Fe-Si化合物薄膜的晶体结构分析 学 院： 电子信息学院＿ 专 业： 电子科学与技术 班 级： 电技101＿＿＿ 学 号：＿1007010024＿＿ 学生姓名：＿＿郑燚＿＿＿＿ 指导教师：＿＿张晋敏＿＿＿ 2014年 5 月 20日  贵 贵州大学本科毕业论文（设计） 第  PAGE II 页 目 录  TOC \o 1-3 \h \z \u  HYPERLINK \l _Toc20984 摘 要  PAGEREF _Toc20984 II  HYPERLINK \l _Toc9970 Abstract  PAGEREF _Toc9970 III  HYPERLINK \l _Toc2468 第一章 Fe-Si化合物的研究背景和基本性质  PAGEREF _Toc2468 1  HYPERLINK \l _Toc20192 1.1 研究背景  PAGEREF _Toc20192 1  HYPERLINK \l _Toc16546 1.1.1 Fe-Si化合物的研究意义  PAGEREF _Toc16546 1  HYPERLINK \l _Toc19116 1.1.2 Fe-Si化合物的研究现状  PAGEREF _Toc19116 2  HYPERLINK \l _Toc25485 1.2 Fe-Si化合物基本性质  PAGEREF _Toc25485 3  HYPERLINK \l _Toc13597 1.2.1 Fe-Si化合物的相图  PAGEREF _Toc13597 3  HYPERLINK \l _Toc26688 1.2.2 Fe-Si化合物的光学性质  PAGEREF _Toc26688 4  HYPERLINK \l _Toc8720 1.2.3 存在的问题  PAGEREF _Toc8720 4  HYPERLINK \l _Toc23275 1.3 Fe-Si化合物的制备方法  PAGEREF _Toc23275 5  HYPERLINK \l _Toc7594 1.3.1 分子束外延  PAGEREF _Toc7594 6  HYPERLINK \l _Toc27883 1.3.2 固相反应淀积法  PAGEREF _Toc27883 6  HYPERLINK \l _Toc23137 1.3.3 磁控溅射法  PAGEREF _Toc23137 6  HYPERLINK \l _Toc23360 1.3.4 制备方法的比较  PAGEREF _Toc23360 8  HYPERLINK \l _Toc11278 第二章 Fe-Si化合物薄膜样品的制备  PAGEREF _Toc11278 9  HYPERLINK \l _Toc29143 2.1 制备仪器  PAGEREF _Toc29143 9  HYPERLINK \l _Toc8340 2.1.1 磁控溅射仪  PAGEREF _Toc8340 9  HYPERLINK \l _Toc23043 2.1.2 高真空退火设备  PAGEREF _Toc23043 10  HYPERLINK \l _Toc19187 2.2 实验准备工作  PAGEREF _Toc19187 11  HYPERLINK \l _Toc5592 2.2.1 实验材料及条件  PAGEREF _Toc5592 11  HYPERLINK \l _Toc15292 2.2.2 Fe靶的清洗  PAGEREF _Toc15292 11  HYPERLINK \l _Toc22342 2.2.3 Si基片的清洗  PAGEREF _Toc22342 12  HYPERLINK \l _Toc14903 2.3 样品制备过程  PAGEREF _Toc14903 12  HYPERLINK \l _Toc6437 第三章 制备参数对Fe-Si薄膜生长的影响  PAGEREF _Toc6437 14  HYPERLINK \l _Toc11206 3.1 溅射气压对硅化物形成的影响  PAGEREF _Toc11206 14  HYPERLINK \l _Toc20886 3.2 退火时间对硅化物形成的影