ch045组合可编程逻辑器件概述.pptx

4.5组合可编程逻辑器件4.5.1PLD的结构、表示方法及分类4.5.2组合逻辑电路的PLD实现4.5组合可编程逻辑器件可编程逻辑器件是一种可以由用户定义和设置逻辑功能的器件。该类器件具有逻辑功能实现灵活、集成度高、处理速度快和可靠性高等特点。4.5.1PLD的结构、表示方法及分类与门阵列或门阵列乘积项和项PLD主体输入电路输入信号互补输入输出电路输出函数可由或阵列直接输出，构成组合输出；通过寄存器输出，构成时序方式输出。1、PLD的基本结构2.PLD的逻辑符号表示方法(1)连接的方式(2)基本门电路的表示方式F1=A•B•C与门或门ABC≥1LDF1=A+B+C+D输出恒等于0的与门输出为1的与门(3)编程连接技术PLD表示的与门熔丝工艺的与门原理图高电平A、B、C有一个输入低电平0VA、B、C三个都输入高电平+5V低电平L=A•B•CA、B、C中有一个为0A、B、C都为1输出为0；输出为1。L=ACL=ABCXX器件的开关状态不同,电路实现逻辑函数也就不同101111(4)浮栅MOS管开关用不同的浮栅MOS管连接的PLD，编程信息的擦除方法也不同。SIMOS管连接的PLD，采用紫外光照射擦除；FlotoxMOS管和快闪叠栅MOS管，采用电擦除方法。浮栅MOS管叠栅注入MOS(SIMOS)管浮栅隧道氧化层MOS(FlotoxMOS)管快闪(Flash)叠栅MOS管当浮栅上带有负电荷时，使得MOS管的开启电压变高，如果给控制栅加上VT1控制电压，MOS管仍处于截止状态。若要擦除，可用紫外线或X射线，距管子2厘米处照射15-20分钟。a.叠栅注入MOS(SIMOS)管导通截止L=B•C1111浮栅延长区与漏区N+之间的交叠处有一个厚度约为80A(埃)的薄绝缘层——遂道区。当遂道区的电场强度大到一定程度，使漏区与浮栅间出现导电遂道，形成电流将浮栅电荷泄放掉。遂道MOS管是用电擦除的，擦除速度快。b.浮栅隧道氧化层MOS(FlotoxMOS)管结构特点:1.闪速存储器存储单元MOS管的源极N+区大于漏极N+区，而SIMOS管的源极N+区和漏极N+区是对称的；2.浮栅到P型衬底间的氧化绝缘层比SIMOS管的更薄。c.快闪叠栅MOS管开关（FlashMemory)（自学）特点：结构简单、集成度高、编程可靠、擦除快捷。3.PLD的分类按集成密度划分为2、按结构特点划分简单PLD(PAL，GAL)复杂的可编程器件(CPLD):CPLD的代表芯片如：Altera的MAX系列现场可编程门阵列(FPGA)PLD中的三种与、或阵列与阵列、或阵列均可编程(PLA)与阵列固定，或阵列可编程(PROM)与阵列可编程，或阵列固定(PAL和GAL等)按PLD中的与、或阵列是否编程分4.5.2组合逻辑电路的PLD实现例1由PLA构成的逻辑电路如图所示，试写出该电路的逻辑表达式，并确定其逻辑功能。写出该电路的逻辑表达式：AnBnCnAnBnAnCnBnCn全加器试写出该电路的逻辑表达式。