拉扎维模拟CMOS集成电路设计第二章作业答案详解完整版概论.pptVIP

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  • 2016-07-22 发布于湖北
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拉扎维模拟CMOS集成电路设计第二章作业答案详解完整版概论.ppt

拉扎维模拟CMOS集成电路设计第二章作业答案详解完整版概论

第二章 作业答案;2.1、W/L=50/0.5,假设|VDS|=3V,当|VGS|从0上升到3V时,画出NFET和PFET的漏电流VGS变化曲线 解: ;PMOS管: 假设阈值电压VTH= -0.8V,不考虑亚阈值导电 当| VGS | 0.8V 时,PMOS管工作在截止区,则ID=0 当| VGS | ≥0.8V时, PMOS管工作在饱和区,PMOS管的有效沟道长度Leff=0.5-2LD,则;2.2 W/L=50/0.5, |ID|=0.5mA,计算NMOS和PMOS的跨导和输出阻抗,以及本证增益gmro 解:本题忽略侧向扩散LD;2.3 导出用ID和W/L表示的gmro的表达式。画出以L为参数的gmro~ID的曲线。注意λ∝L;2.4 分别画出MOS晶体管的ID~VGS曲线。a) 以VDS作为参数;b)以VBS为参数,并在特性曲线中标出夹断点;2.5 对于图2.42的每个电路,画出IX和晶体管跨导关于VX的函数曲线草图,VX从0变化到VDD。在(a)中,假设Vx从0变化到1.5V。 (VDD=3V);(a)综合以上分析;(b) λ=γ=0, VTH=0.7V;当VX≥1.2V时,MOS管工作在饱和区;(C) λ=γ=0, VTH=0.7V;(d) λ=γ=0, VTH=-0.8V;当VX1.9V时,MOS管S与D交换;(e) λ=0,;当VX1.82V时,MOS管工

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