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半导体物理与器件第1章_半导体材料的基本性质
半导体物理与器件;第一章 半导体材料的基本性质;1.1 半导体与基本晶体结构;;1.1.2 半导体材料的基本特性 ;晶体结构是指原子在三维空间中周期性排列着的单晶体
晶胞:单晶体结构可以用任意一个最基本的单元所代表,称这个最基本的单元叫晶胞。
晶格:单晶体是由晶胞在三维空间周期性重复排列而成,整个晶体就像网格一样,称为晶格。
格点与点阵:组成晶体的原子重心所在的位置称为格点,格点的总体称点阵。;六方密堆积(hcp): ???ABABAB ??? 如:Mg, Zn, Cd ??? 立方密堆积(fcc): ???ABCABC ??? 如:Ca,Cu, Al ??? 体心立方(bcc): 如:Li, Na, K, Ba ??? 简单立方(sc)金刚石结构:如:金刚石,Si, Ge ???
NaCl结构:如:NaCl, LiF, KBr ??? CsCl结构:如:CsCl, CsBr, CsI ??? 闪锌矿结构:如:ZnS, CdS, GaAs, ?-SiC ???;3种常见的立方晶体的晶胞
a)简单立方 b)体心立方 c)面心立方;金刚石结构的晶胞与平面示意图
a)金刚石型结构的晶胞 b)硅晶体的平面结构示意图;金刚石型结构
a)正四面体 b)结构;1.1.4 晶面及其表示方法;1.1.4 晶面及其表示方法;1.1.5 半导体材料简介;1.2 半导体的能带;1.2.2 晶体中电子的能带;2.晶体中电子能带的形成
;2.晶体中电子能带的形成
;1.2.3 硅晶体能带的形成过程;1.2.4 能带图的意义及简化表示;半导体能带简化表示
a)能带简化表示 b) 能带最简化表示;1.3 本征半导体与本征载流子浓度;本征半导体的导电物质:导带电子和价带空穴
载流子:导带电子和价带空穴均能在外加电场作用下,产生定向运动形成电流,把上述两种荷载电流的粒子称为半导体的俩种载流子.
本征半导体导电机构的特点:导带电子浓度和价带空穴浓度永远相等.;1.3.2 热平衡状态与热平衡载流子浓度;1.3.3 本征载流子浓度;式中N(E)称为能态密度,在单位体积晶体中,允许的能态密度表达式为;电子占据能量为E的机率函数称为费米分布函数,其表达式为
k为玻尔兹曼常数;T为热力学温度;EF是费米能级.
可以用曲线把费米分布函数式表示出来. ;不同温度下费米分布函数随(E-EF)的变化关系; 下图从左到右形象描绘出了能级分布,费米分布及本征半导体与空穴在能带中的分布情况.;1.3.4 费米能级与载流子浓度的关系;1.3.4 费米能级与载流子浓度的关系;2.两种载流子浓度的乘积
由上式可以看出,随温度的升高.半导体np乘积的数值是要增大的.
利用本征半导体电子和空穴浓度的关系可以得到
因此半导体两种载流子浓度的乘积等于它的本质载流子浓度的平方.;3.本征半导体的费米能级;1.4 杂质半导体与杂质半导体的载流子浓度;1.4 杂质半导体与杂质半导体的载流子浓度;1.4.2 施主与受主杂质能级;1.4.3 杂质半导体的载流子浓度;对于N型半导体,其少数载流子的浓度p为;1.4.4 杂质半导体的费米能级及其与杂质浓度的关系;1.4.5 杂质半导体随温度的变化;伴随着温度的升高,半导体的费米能级也相应地发生变化;Si、GaAs的费米能级随温度变化曲线
a)Si b)GaAs;1.5 非平衡流子;1.5.1 非平衡载流子的产生;1.5.2 非平衡载流子的寿命;1.5.2 非平衡载流子的寿命;1.5.3 非平衡载流子的复合类型;1.5.4 准费米等级;N型半导体小注入前后准费米能级偏离费米能级的程度
a)小注入前 b)小注入后;1.6载流子的漂移运动;1.6.1 载流子的热运动与漂移运动 ;随机热运动的结果是没有电荷迁移,不能形成电流。
引入两个概念:
大量载流子碰撞间存在一个路程的平均值,称为平均自由程,用λ表示,其典型值为10-5cm;
两次碰撞间的平均时间称为平均自由时间,用τ表示,约为1ps;
建立了上述随机热运动的图像后,就可以比较实际地去分析载流子在外加电场作用下的运动了。; 外加电场E施加于半导体上时,每一个电子在电场力F=-qE的作用下,沿着电场的反方向在相继两次碰撞之间做加速运动,其加速度可表示为
对于价带空穴同样有
式中,mn ,mp为电子空穴的有效质量。;需要说明的是这个加速度不能累积,每次碰撞之后,这个定向漂移运动的初始速度下降为零。也就是说,载流子在电场作用下的加速度只有在两次散射间存在。
随机热运动和漂移运动的合成使载流子产生了净位移。
对于等加速度运动来说,经过平均自由时间τ之后的平均漂移速度应为
对电子 对于空穴;1.6.2
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