薄膜物理与技术-4薄膜制备中的相关技术资料.ppt

薄膜物理与技术;;4 薄膜制备中的相关技术;4.1 基片 4.1.2 基片的清洗 P115;4.1 基片 4.1.3 超清洁表面 P117 ;4.2 薄膜厚度监控及测量; 由于实际上存在的表面是不平整和不连续的，而且薄膜内部还可能存在着针孔、杂质、晶格缺陷和表面吸附分子等，所以，要严格地定义和精确测量薄膜的厚度实际上是比较困难的。 膜厚的定义应根据测量的方法和目的来决定。又因为几乎所有的薄膜性质都与膜厚有关，因此利用薄膜的性质可用来进行膜厚的测量。但是对于同一薄膜，使用不同的测量方法将得到不同的结果(即不同的厚度值)，这一点必须注意到。 ;;;利用石英晶体的压电效应，在将源材料镀到基片的同时，也将其镀到与振荡电路相连的石英片上，根据石英体的谐振频率的变化，来计算膜的厚度。 石英晶体的弹性模量E0和他的质量m0及固有频率之间的关系为： （1） N为与石英片切割方式和尺寸大小相关的比例常数。 沉积物质后， m0增加，谐振频率变化。 （2） 石英晶体谐振频率f 随沉积物质的增加而下降。 由（1）（2）， （3） ;设工作面积为S的石英晶体上，沉积有密度 、厚度为d的薄膜，则有 ： ， （4） 因此，根据测得的频移量，可得到膜厚d， （5） 注（1）由于薄膜密度 一般要略小于相应块体材料的密度，当用块体材料密度代替薄膜材料时，会有误差产生。 （2）对于产生较大的频移量 ，式（3）中 与 之间不再是线性关系，可用下式修正： (6) 特点：简洁灵敏，可以测定金属、半导体和介质膜的厚度，其主要缺点是测试方法属于间接测量法，石英探头在 太大时容易产生电击。;;;电阻法;;电阻法监控膜厚的装置示意图;s;;;电容测量法;如果以强度为I0的光照射具有光吸收性的薄膜， 则其强度衰减可用朗伯定律描述： I= I0 exp(-?d) 式中，d为膜厚，?是吸收系数。 设强度I0光从空气垂直垂直入射到厚度为d的薄膜，透 射光强度为It，则可定义透射系数Tt， Tt= It/ I0;反射系数R，则在第一个界面上反射的光强变为RI0, 通过第一个界面进入样品的光强为 （1-R）I0 由于样品吸收，到达膜厚为d的第二个界面时光强为 （1-R）I0 exp(-?d) 通过第二个界面进入空气的光强为 （1-R）2 I0 exp(-?d) 在第二个界面反射的光 R（1-R）I0 exp(-?d) ，又在样 品内部射向第一个界面，在样品中吸收掉部分，达到第 一个界面又将发生透射和反射，如此多次发生样品内反 射和向样品外的透射。当反射次数很多时，可得到： ;因此，通过测量光强度的变化，利用上式可确定吸收薄膜的 厚度。(已知 和R);光干涉法; 如果两束相干光的