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第二章 晶体缺陷;第一节 材料的实际晶体结构;一、多晶体结构;一、多晶体结构;二、多晶体的组织与性能:;三、晶体中的缺陷概论;三、晶体中的缺陷概论;第二节 点缺陷;二、点缺陷的形成;三、点缺陷的表示;缺陷方程三原则: 质量守恒, 电荷平衡, 正负离子格点成比例增减。
肖特基缺陷生成:0=VM,,+ VO··
弗仑克尔缺陷生成: MM = VM,,+ Mi ··
非计量氧化物:1/2O2 (g)= VM,,+ 2h· + OO
不等价参杂:Li2O= 2LiM, + OO + VO··
Li2O+ 1/2O2 (g) = 2LiM, + 2OO + 2h·
Nb2O5 = 2NbTi · + 2 e, + 4OO + 1/2O2 (g)
;;;;;五、点缺陷对材料性能的影响;例题一;分子式:Al1.9946 Ni0.005 Cr0.0004 O2.9975)
(2)1 -0.005 -0.0002 = 0.9948
0.005NiO0.0002Cr2O30.9948Al2O3
含有0.0025mol氧空位,相当于0.00083mol的Al2O3的氧空位,由于固溶前后体积不变,应该假定掺杂前有
0.00083mol的Al2O3空缺。
;;第三节 位错 ;???、位错的原子模型;一、位错的原子模型;一、位错的原子模型;二、柏氏矢量 ;二、柏氏矢量 ;三、位错的运动 ;三、位错的运动 ;三、位错的运动 ;三、位错的运动 ;三、位错的运动 ;三、位错的运动 ;三、位错的运动 ;四、位错的观察 ;四、位错的观察 ;五 位错的弹性特征 ;(一)位错的应变能;(二)位错与点缺陷的交互作用 ;(三)位错间的交互作用 ;(三)位错间的交互作用 ;(四) 位错的分解与合成;第四节 晶体中的界面 ;一、表面及表面能;表面能的计算;LS = 12 Na * ?/2
= LS / 6 Na
?EA = (0.577 LS) / (a2*Na)
当温度较低时,可忽略表面墒,则上式得出的表面内能既为比表面能? 。
;一、表面及表面能;二、晶界 ;二、晶界 ;二、晶界 ;二、晶界 ;三、相界面 ;四、晶界的平衡形貌 ;四、晶界的平衡形貌 ;四、晶界的平衡形貌 ;小结
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