3薄膜制备技术(PVD)(溅射).ppt

物理气相沉积——溅射法;1853年Grove就观察到了溅射现象，发现在气体放电室的器壁上有一层金属沉积物，沉积物的成份与阴极材料的成份完全相同。但当时他并不知道产生这种现象的物理原因 。; 当离子入射到靶材料上时，对于溅射过程来说比较重要的现象有两个，其一是物质的溅射，其二则是电子的发射。而后者在电场的作用下获得能量，进而参与气体分子的碰撞，并维持气体的辉光放电过程。;离子轰击引起的各种效应;离子轰击固体表面所产生的各种效应及发生几率; 溅射产额及影响因素;(1) 随着入射离子能量的增加，溅射产额先是提高，然后在离子能量达到10keV左右的时候趋于平缓。当离子能量继续增加时，溅射产额反而下降。;（2) 各种物质都有自已的溅射阀值，大部分金属的溅射阀值在10~40eV，只有当入射离子的能量超过这个阀值，才会实现对该物质表面原子的溅射。物质的溅射阀值与它的升华热有一定的比例关系。;下图是在加速电压为400V、Ar离子入射的情况下，各种物质的溅射产额的变化情况。易知，溅射产额呈现明显的周期性。;下图是在45kV加速电压条件下各种入射离子轰击Ag、Cu、Ta表面时得到的溅射产额随离子的原子序数的变化。易知，重离子惰性气体作为入射离子时的溅射产额明显高于轻离子。但是出于经济方面的考虑，多数情况下均采用Ar离子作为薄膜溅射沉积时的入射离子。;c、离子入射角度对溅射产额的影响;d、靶材温