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;半导体纳米晶简介;半导体纳米材料 一般是指材料的尺寸在纳米范围内的半导体材料,其小于通常的粒子,而又大于原子簇,主要涉及的是Ⅱ-Ⅵ如CdSe 、Ⅲ-Ⅴ如InP、InAs 和GaAs 化合物以及Si/C等元素。
纳米晶 具有纳米尺度的晶体材料,原子、离子、分子等具有周期性的规则排列。;零维——半导体纳米点
一维——半导体纳米带、半导体纳米线、半导体纳米管
二维——半导体纳米薄膜
三维——块体材料;Ⅳ族半导体纳米晶
Si、C
Ⅲ-Ⅴ族半导体纳米晶
InAs、GaSb、InP
Ⅱ-Ⅵ族半导体纳米晶
CdSe、CdS、CuSe、ZnSe、ZnS
Ⅴ-Ⅵ族化合物半导体纳米晶
AsTe、SbS3、AsS3
多元化合物半导体纳米晶
CuInSe2、CuInGaSe、CuInS2;;;二、半导体纳米晶的性质及应用;三、制备方法介绍;三、制备方法介绍;有无化学反应;四、化学合成方法;化学气相沉积(CVD )方法目前被广泛的应用??纳米材料(薄膜材料)的制备,主要用于制备半导体、氮化物、碳化物纳米薄膜。;CuS和InCl3利用LP-MOCVD法制备的CuInS2;热壁外延法(Hot Wall Epitaxy HWE)是一种低成本、简捷方便的外延技术,在严格控制成核、生长条件以及近乎热平衡的条件下可获得高质量外延层,同时生长速率也较快。;四、化学合成方法 — 液相合成;四、化学合成方法 — 液相合成;Murray等首次以三辛基氧膦(TOPO)作溶剂, Cd(CH3)2作为镉源,(Si Me3)2Se和(SiMe3)2Te为硒源和碲源,于300oC反应得到了高结晶度、单分散的尺寸可控的CdSe和CdTe纳米晶。;;四、化学合成方法 — 液相合成;四、化学合成方法 — 液相合成;四、化学合成方法 — 液相合成;四、化学合成方法 — 液相合成;;;四、化学合成方法 — 液相合成;(3)电化学沉积;(3)电化学沉积;Journal of Physical Chemistry C.,?2012,?116, 2438;TiO2 NBs/Cu2S composites;
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