2014现代光学薄膜技术9研究.ppt

真空镀膜系统;OTFC-1300;真空腔室内部图;真空系统;真空系统;真空在薄膜制备中的作用：减少蒸发分子与残余气体分子的碰撞，抑制残余气体与蒸发分子之间的反应;真空泵;（1）机械泵 ?常见种类：旋片式、定片式和滑阀式。 ?旋片式，噪音最小，运转速度高（1000转/分），是真空镀膜常用的机械泵。 ?主要构成：定子、转子、嵌于转子的两个旋片及其弹簧。 ?机械泵油的作用：密封、润滑，提高压缩率 ?机械泵油的要求：低的饱和蒸气压，一定的粘度，较高的稳定性 ?机械泵对水气等可凝性气体抽气有困难。当蒸气在腔内压缩，压强逐渐增大到饱和蒸气压时，水气开始凝结为水，与机械泵油混合形成一种悬浊液，不仅破坏了密封和润滑，而且会使腔体生锈。 ?一般采用气镇泵，在气体未被压缩前，渗入一定量的空气，协助打开活门，让水蒸气在尚未凝结前排出。 ;扩散泵 ?扩散泵是依靠从喷嘴喷出的高速（如200m/s），高密度（如几十托）的蒸气流而输送气体的泵。依靠被抽气体向蒸气流扩散进行工作的。通常是以油为工作蒸汽 ?扩散泵结构：一般为三级喷嘴。 ?铝制的各级伞形喷嘴和蒸气导管是扩散泵的核心部分。 ?扩散泵的极限真空压强： ?Pm＝Pfexp（-nUL/D0） ?Pf 为前级真空压强，n为蒸气分子密度，L为泵的出气口蒸气流扩散长度，U为油蒸气速度 ?U≈1.65×104√（T/M）（cm/s） ?M为油蒸气的分子量，D0=DN=常数，D为自扩散系数，D=1/3l? ?L和?分别是平均自由程和算术平均速度。 ?扩散泵的口径一般是钟罩直径的三分之一，扩散泵的抽气速率大约是钟罩容积的5倍。 ;低温泵 Cryo-pump;;;;;;;低温泵的基本构成;成膜工艺;光学薄膜真空镀膜技术一般采用物理气相沉积（PVD）技术。;PVD成膜方式;电子束蒸镀;直枪与环枪的二次电子的问题 高能电子在轰击材料时，将发射二次电子 一般材料熔点越高，绝缘越好，散射的二次电子越严重； 材料的原子序数越大，轰击引起的二次电子发射越多。 二次电子轰击薄膜会导致膜层粗糙，吸收增加，均匀性变差，并影响半导体材料的特性。;离子源;两种离子源的特点： ?考夫曼离子源的特点：高能低束流，能流密度???低，出射角度较小，适合于镀制较小面积的光学器件；使用成本高； ?霍尔离子源的特点：低能大束流，能流密度较大，发射角也较大，适合较大面积的生产使用；使用成本低；适合于大规模生产使用。 ;RF离子源系统组成射频离子源，中和器离子源电源系统，工作气体导入系统和流量控制仪;双离子束溅射沉积薄膜;Veeco溅射沉积镀膜系统;16cm聚焦型射频离子源;射频离子源工作原理;离子源辅助镀膜（IAD）的作用：; 离子清洗;基板旋转系统;镜片悬挂机构;膜厚监控系统;目视法;目视观察薄膜干涉色的变化来控制介质膜的厚度。常用来控制MgF2单层膜。 ?一般情况下，目视法常采用反射式，由于透射式的背景光太亮，使干涉光的对比度大大下降。往往是固定一个观察角度来确定膜层的厚度。 ;光学膜厚控制;由于极值法控制精度较低，可以通过采用适当的控制技巧或改进方法提高控制精度。极值法控制有两种方法：一种是直接控制，即全部膜层自始至终直接由被镀样品进行控制，不换控制片；另一种是间接控制，即控制是在一系列的控制片上进行的。 ;间接控制时，淀积在一个已由膜层的基板上的膜层厚度和同时淀积在一个新鲜基板上的膜层厚度之间有明显的差异。这是由于膜层在已由膜层的基板能够立即生长，而在新鲜的基板上生长需要有形成晶核的时间。因此，间接控制的精度与直接控制的精度有差异。简接控制也有其优点，可以调节控制波长，而其误差是随机的误差，减少了其他膜层的影响。 ;（HL)^15 H;溅射;Sputter coater;RAS-1100B coater; 典型的LCoS引擎结构;期末报告