直流溅射法制备金属薄膜.docVIP

实验名称：实验7.2直流溅射法制备金属薄膜 班级：信息0503 实验日期：2007.6.7 姓名：宋江凌 学号：座机电话号码 同组人姓名： 【目的要求】：直接的接触薄膜材料，对薄膜材料有一个直观的感性认识 了解喝学会直流溅射制备金属的原理和方法 学会制备干涉法测量薄膜厚的薄膜样品的方法 【实验原理】：1.SBC-12小型直流溅射仪，它可以在较低的真空度下进行直流溅射，因此简化了真空系统，只需用机械真空泵提供1～2Pa的真空度即可，大大缩短了实验时间 2.直流溅射制备金属薄膜 溅射就是指荷能粒子轰击表面，使得固体表面原子从表面射出的现象，这些从固体表面射出的粒子大多呈原子状态，通常称为被溅射原子。溅射例子轰击靶材，从而使得表面成为被溅射原子，被溅射原子沉积到衬底上就形成了薄膜。溅射法又可分为直流溅射，磁控溅射，射频溅射和反应溅射法. 3.制备干涉方法测量金属薄膜厚度的样品，干涉法测量薄膜厚度的原理和实验装置参考7.3，在干涉法测量薄膜膜厚的样品构成的空气劈尖，当台阶的高度为待测膜厚d。为了观察到清晰的干涉条纹，表面应该具有很好的反光性 【实验仪器】：SBC-12小型直流溅射仪，机械泵，超声波清洗器，氩气，玻璃衬底等 【实验内容】：1.直流溅射制备金属薄膜 把金靶到工作台的距离调整到40～45mm。 用超声波清洗器先后在丙酮，无水乙醇中清洗玻璃衬底，把玻璃衬底烘干后放在镀膜室的工作台上；盖上镀膜室的上盖。 打开“总电源开关”，机械泵开始对镀膜室抽真空，观测镀膜室的真空度，小于2Pa时打开氩气控制阀门的针阀，像镀膜室充入氩气。 设定好“定时器”的时间，为防止过热，单次连续溅射的时间不要超过60s，制备较厚的薄膜时采取多次溅射法 按下“试验”按钮，检查“溅射直流表”中显示的电流是否在7～10mA之间，立即松开“试验”按钮；然后，按下启动按钮，金靶被加上1000V的溅射电压，金薄膜沉积开始。这是可以看见镀膜室发出紫色的等离子辉光放电现象，“溅射电流表”中显示的电流稳定在5～8mA之间。随时通过对氩气控制阀“针阀”的自习调节，控制氩气的流量使镀膜室的真空度稳定 当“定时器”所设定的沉积时间达到之后，溅射电压变为0，溅射自动停止溅射电流表显示电流为零 完成了薄膜制备过程 中的一次溅射沉积。需要多次溅射沉积则重复以上步骤。 关闭氩气控制阀“针阀”，关上总电源开关，拉起“镀膜室上盖”上的“放气阀”，给镀膜室充入空气。回到大气压后，打开镀膜室上盖，取出薄膜样品。 金薄膜制备条件 金靶到工作台距离： 薄膜的沉积速率： 样品标号 沉积时间 氩气压强 溅射电流 薄膜厚度 通过以上操作，分别制出沉积时间为4min，6min，10min，15min，20min的金薄膜样品。 2.干涉法测量薄膜样品的制备 通过上述操作在玻璃衬底上制备金薄膜，沉积时间选为4min。其次把上述沉积有金薄膜的玻璃衬底的一半用玻璃片覆盖，另一半裸露着；用胶带把覆盖玻璃片固定在工作台，最后再次沉积金薄膜，沉积时间为15min。沉积完成后去掉玻璃片就获得了待测薄膜厚的金薄膜样品。 【数据和数据处理】： 【分析讨论】： 【结论】：