第二章材料表面清理与精整分析.pptVIP

3.3弱腐蚀 目的 去除工序间形成的极薄的氧化膜，使工件表面具有更好的化学均匀性，以提高覆盖层与基体的结合力。 3.4光化处理 目的 除掉强腐蚀后留在工件表面的挂灰，以获得光亮的金属表面，工艺见教材P47 3.5中和处理 目的 1.防止预处理的酸液带入处理槽，污染镀液；2.防止酸洗后残留H+析出氢气；3.腐蚀工件； 室温的碳酸钠溶液（30～60g/L）处理0.5～1min。 4无光处理和抛光处理 4.1无光处理-消光处理 使工件表面形成非光泽面，以降低工件表面处理以后的最终光洁度。原因是：制品要求无光泽面（不要强烈反光），或者是装饰的要求，有时是使用性能的要求；对于着色处理来说，非光泽面比较容易控制着色的均匀性。 无光处理在铝合金阳极氧化流程用得较多，无光处理的原理使工件表面发生点腐蚀。化学无光处理和电解无光处理。 工艺配方见教材P47 4无光处理和抛光处理 4. 2抛光处理目的 使工件获得光亮而平整的表面，消除机械损伤和腐蚀点，提高表面平滑度和光泽度 分类 机械抛光、化学抛光和电解抛光 扩散型：这是因为温度升高加快了金属离子向主体溶液的扩散,加快合金的溶解,极化峰电流增大。 钝化与抛光的区别 机理：黏膜说和受主说 BGA封装工艺（Ball Grid Array）（球栅阵列结构的PCB），它是集成电路采用有机载板的一种封装法。 　　在BGA工艺中，对表面清洁和处理都是非常严格的，焊球与基板的连接要求一个洁净表面以保证焊接的一致性和可靠性。等离子体处理它可以保证不留痕迹，BGA焊盘要求等离子处理来确保良好的粘接性能，并且，已有批量和在线式的清洗工艺。 精密零件清洗： 　　在经过机械加工的零件表面主要残留物为油类污染，采用O2等离子体去除会特别有效。 硬盘 　　用等离子清洗来去除由上一步溅镀工艺留下的残余物，同时基材表面经过处理，对改变基材的润湿性，减小摩擦，很有好处。  液晶显示器生产中的清洗： 　　在液晶清洗中的干式清洗，使用的活化气体是氧的等离子体，它能除去油性污垢和脏物粒子，因为氧等离子体可将有机物氧化，形成气体排出。它的唯一问题是需要在去除粒子后加入一个除静电装置清洗工艺如下： 研磨---吹气----氧等离子体----除静电通过干式洗净工艺后的电极端子与显示器，增强了偏光板粘贴的成品率，并且电极端与导电膜间的粘附性也大大改善。 去除光致抗蚀剂 　　在晶片制造工艺中，使用氧等离子体去除晶片表面抗蚀剂（photoresist）。干式工艺唯一的缺点是等离子体区的活性粒子可能会对一些电敏感性的设备造成损害。为了解决这一问题，人们发展了几种工艺，其一是用一个法拉第装置以隔离轰击晶片表面和电子和离子；另一种方法是将清洗蚀刻对象置于活性等离子区之外。（顺流等离子清洗）蚀刻率因电压，气压以及胶的量而定，典型的刻蚀率为每分钟1000埃，正常需要10?分钟时间。 紫外线-臭氧清洗 清洗设备的核心是低压石英汞灯，产生254和185nm范围的紫外线。臭氧和等离子氧气产生，有机污染物分子在吸收254nm波长紫外线后被激发或分解。激发的有机污染物可以和离子氧原子反应形成气体，比如CO2,H2O等。整个过程在室温发生，并且只需要1到几分钟完成. 对象：皮肤油脂，有机硅油和油脂，助焊剂，残留的光刻胶，胶水溶剂，碳等。 激光表面清洗 工件表面粘有亚微米级的污染颗粒时，这些颗粒往往粘得很紧，常规的清洗办法不能够将它去除，而用纳米激光辐射工件表面进行清洗则非常有效。 脉冲式的Nd:YAG激光清洗的过程依赖于激光器所产生的光脉冲的特性，基于由高强度的光束、短脉冲激光及污染层之间的相互作用所导致的光物理反应。其物理原理可概括如下： a)激光器发射的光束被需处理表面上的污染层所吸收。 b)大能量的吸收形成急剧膨胀的等离子体(高度电离的不稳定气体)，产生冲击波。 c)冲击波使污染物变成碎片并被剔除。 d)光脉冲宽度必须足够短，以避免使被处理表面遭到破坏的热积累。 e)实验表明当金属表面上有氧化物时，等离子体产生于金属表面。 激光清洗的实际应用 模具的清洗 武器装备的清洗 飞机旧漆的清除 随着我国经济的飞速发展，越来越多的摩天大楼被建立起来，大楼外墙的清洁问题日益凸现，LASERLASTE激光清洗系统通过最长70米的光纤对建筑物外墙的清洗提供了很好的解决方法，它可以对各种石材、金属、玻璃上的各种污染物进行有效清洗，且比常规清洗效率高很多倍。还可以对建筑物的各种石材上的黑斑、色斑进行清除。LASERLASTE激光清洗系统在嵩山少林寺对建筑物、石碑进行的清洗试验表明，采用激光