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- 2016-08-02 发布于湖北
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Company LOGO Company LOGO RoF 基本组成:光源,光调制器,光放大器,光电探测器 光调制器: 依据的基本理论是各种不同形式的电光效应、声光效应、磁光效应、Fang-Keldgsh效应、量子阱Stark效应、载流子色散效应等 主要包括:相位调制器和强度调制器 强度调制器主要有:EAM和MZM 马赫-增德尔调制器(MZM) MZM结构图 MZM——2个相位调制器 输入光场 驱动电压 相位调制引起的附加相位 经相位调制输出光场形式 相位调制器 如果 MZM——两个相位调制器 假设两臂分别调制了角频率为ω1, ω2,幅度为V1和V2的调制电压 马赫-增德尔调制器 G是电极间间隔,L是电极长度,neff是铌酸锂光波导有效折射率,Г是电场与光场间之间重叠因子,?为真空中光波波长,γ33为线性电光张量第九分量 MZM输出光场为: ρ为两个Y分支功率分配比,理想状况下ρ1=ρ2=1/2,所以 马赫-增德尔调制器 输出端光强为: (V1-V2)=0 Iout=Iin ——最大输出点 (V1-V2)=Vπ/2 Iout=1/2Iin —— 正交点(quadrature point) (V1-V2)=Vπ Iout=0 —— 最小输出点 马赫-增德尔调制器 输出MZM光强经过光纤链路衰
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