硕士学位论文答辩课题.pptx

华北电力大学硕士学位论文答辩导师：答辩人：2015年3月10日高端塑料模具钢S136表面CMP精细加工工艺研究专业：材料学论文提纲研究背景、研究内容1具体实验方案路线CMP材料去除机制全文结论及后续工作5最佳工艺参数的提出5对最佳工艺参数的验证分析研究背景模具型腔粗糙度器件美观程度模具使用寿命成型器件性能生产效率抛光当前抛光方法电化学抛光超声波抛光超声电解复合抛光磁流变抛光局限性化学机械抛光评价指标均方根粗糙度：RMS材料去除速率：MRR实验材料S136钢研究内容●简要介绍高端塑料模具钢的性能和应用，阐述化学机械抛光（Chemicalmechanicalpolishing）的发展，以高端塑料模具钢S136钢为例探讨CMP工艺的应用；●以单因素变量法先大致确定CMP参数下压力、转速、磨料种类、抛光液PH值的分布水平，再通过正交实验设计，提出使S136表面粗糙度达到超光滑的工艺参数，并对提出参数以RMS、MRR为评价指标，通过XRD、SEM、AFM分析验证；●提出S136钢CMP过程材料去除机制和化学反应机理，对抛光所产生的表面缺陷进行分析。具体实验方案路线工艺参数对CMP性能的影响单因素变量分析1.抛光液PH值对CMP性能的影响酸性抛光液体系下RMS、MRR与PH的关系工艺参数对CMP性能的影响单因素变量分析碱性抛光液体系下RMS、MRR与PH的关系工艺参数对CMP性能的影响单因素变量分析2.转速对CMP性能的影响工艺参数对CMP性能的影响单因素变量分析3.压力对CMP性能的影响工艺参数对CMP性能的影响单因素变量分析4.磨料种类对CMP性能的影响工艺参数对CMP性能的影响正交实验方案设计●.正交试验方案设计：对于多因素多水平的实验，若采取各个参数均取遍的方法，实验次数将非常多，实现起来及其困难。假如不全部取遍，那如何来保证所取得的数据具有普遍代表性。那么到底如何做？————正交实验方案设计。优点：所取数据在具有普遍代表性的基础上能大大较少实验次数正交表的设计本身考虑到了个参量之间的组合方式。例如对6因素6水平的实验，用单因素法需要66次实验，而正交实验只需要64次。正交实验能分析各因素对实验结果的影响程度工艺参数对CMP性能的影响正交实验方案设计工艺参数对CMP性能的影响正交实验方案设计最佳工艺参数分析1.以RMS为评价指标，RMS越小越好，由表中RMS数据可知：(1)固定其它参数，只改变转速，当转速在A2水平，抛光效果最佳；(2)固定其它参数，只改变下压力，当下压力在B2水平，抛光效果最佳；(3)固定其它参数，只改变PH值，当PH值在C1水平，抛光效果效果最佳；(4)固定其它参数，只改变磨料种类，当磨料种类为D2时，抛光效果最佳。所以，从材料表面粗糙度角度来讲，在A2B2C1D2工艺参数组合下，也就是抛光转速100r/min、压力3.5psi、酸性抛光液体系PH为4，磨料种类为SiO2时，对于S136钢CMP,其抛光性能最好。工艺参数对CMP性能的影响正交实验方案设计最佳工艺参数结果分析1.以MRR评价指标，MRR越小越好，同理由表中数据可知，在A2B3C1D1工艺参数组合下，也就是转速100r/min、压力4.5psi、酸性抛光液体系PH为4、以Al2O3为磨料，材料去除速率最大，抛光效率最高。2.在A2B2C1D2与A2B3C1D1工艺参数组个中，只有压力和磨料种类水平不同，由表中数据可知，在B2与B3水平以及D1与D2水平下，材料去除速率相差不大，在优先考虑表面粗糙度指标的要求下，A2B2C1D2为最佳工艺参数组合。工艺参数对CMP性能的影响正交实验方案设计各因素影响程度大小分析1.对表面粗糙度的影响：磨料种类影响最显著，PH值影响程度次之，然后是下压力，转速，即各因素影响主次关系为：磨料种类＞PH值＞下压力＞转速。2.对材料去除速率的影响：下压力＞PH值＞转速＞磨粒种类，需要说明的是下压力影响程度略大于PH值的影响程度，可以认为基本相同，转速影响程度略大于磨料种类，也可以认为转速和磨料种类的影响程度基本相同。对最佳工艺参数的验证分析1.RMS与MRR分析原始的S136钢RMS为68.31nm，经最佳工艺参数抛光后，其RMS值降为为2.87nm,MRR为173.26nm/min,与其他数据比较，RMS最小，同时MRR最大，获得好的加工效率，这证实了以上正交实验结果所得出数据的有效性和可靠性。对最佳工艺参数的验证分析2.X射线衍射分析（XRD)对最佳工艺参数的验证分析3.扫描电子显微镜分析（SEM)原始试样在转速80r/min，PH3，压力6.5psi，SiO2为磨料对最佳工艺参数的验证分析转速100r/min，PH11，压力4.5psi，Al2O3为磨料最佳抛光工艺参数下的SEM图对最佳工艺参数的验