NIKLAD Operating Manual(20080908修订版)研讨.docVIP

化学镍操作手册 catalogue 目录 I. Formulation 简述 3 II. Deposit Properties 镀层特性 7 III. Equipment Requirements 设备要求 9 IV. Solution Preparation 溶液配制 10 V. Operating Conditions 操作条件 11 VI. Function Description 功能描述 12 VII. Solution Maintenance 溶液维护 16 VIII. Analytical Procedures 分析方法 20 IX. Operating instruction 操作指南 22 Formulation 简述 VAND-ALOY 4100 VAND-ALOY 4100是一种稳定的、易操作的无电解镍溶液，该制程用作功能性无电解镍合金的沈积，该合金包含质量比10-12%的磷。因为它独特的配方和调节剂，该溶液能生产出高耐腐蚀的沉积层。 VAND-ALOY 4100制程能够抵抗大多数杂质，它的目的在于提供高沉积速率和较长的槽液寿命。它特别适用于那些高产率和有质量要求的简易生产。这个系统可以通过使用Vand-Aloy 4100A，4100B和4100C-NA达到完全无氨操作。 表1 VAND-ALOY 4100的特性与优点 特性 优点 优良的耐腐蚀性能 选择合适的无氨化物操作系统 产品经验证有高产率和电镀速率 符合MIL-C-26074，AMS 2404，ASTM B-656，ASTM B-733和ISO4227指定要求 独特配方提供较长的操作寿命，并有优良的稳定性 NIKLAD ELV 811 NIKLAD ELV 811高磷无电镍系统是最新一代的技术，限制了用做稳定剂的铅的使用。因为无铅，该系统符合机动车的ELV规范，也符合ROHS规范的WEEE限令。 该制程是一个独特的化学镍产品，可提供卓越的镀层特性，并提供简单的操作和控制。NIKLAD ELV 811的Ni-P镀层含磷量是10-12%。像传统的高磷系统一样，可产生良好的镀层硬度和抗蚀能力。由于高磷本性，在各种环境下，镀层可提供卓越的腐蚀保护和耐蚀特性。 表2 NIKLAD ELV 811的特性与优点 特性 优点 为铝合金和铁合金提供卓越的耐蚀性能 无铅、光亮到半光亮的镀层，符合ELV Directive 2000/53/EC, WEEE Directive 2002/96/EC ROHS Directive 2002/95/EC 良好的沉积速率，符合高产量要求 万能的三组成系统 符合或超越GMW 3059, Ford WSSM99P9999-A1, WSD-M1P65B1 B2, Chrysler CS9003, AMS 26074 (formerly MIL-C-26074),AMS 2404, ASTM B-733 and ISO 4527.规范列出的性能要求 可选择氨型pH自动调节成分 卓越的稳定性，也可使用不锈钢槽体和设备 无EDTA，也可在完全无氨系统而操作 NIKLAD ELV 805 NIKLAD ELV 805化学镍系统源自最新一代的技术，其限制了铅稳定剂成分和镉光亮剂成分的使用，由于无铅无镉，该系统符合ELV规范，RoHS的规定的WEEE限制。 该制程是一种独特的化学镍系统，它提供了卓越的镀层特性，操作简便，易于控制。镀层磷含量是4-6%。具有卓越的镀层硬度和耐磨性能。该镀层提供良好的腐蚀保护和耐蚀特性。 表3 NIKLAD ELV 805的特性与优点 特性 优点 三种成分的形式与传统化学镍相似 无铅无镉，镀层光亮，符合ELV Directive 2000/53/EC Annex II, June 2002, WEEE Directive 2002/96/EC RoHS Directive 2002/95/EC 高浓缩的建浴成分 可在pH自我调节下操作，并完全可在无氨状态下运行 因高的产出，沉积速率快而适合于高产量要求 符合或超越GMW 3059, Ford WSSM99P9999-A1, WSD-M1P65B1 B2, Chrysler CS 9003, AMS 26074 (formerly MILC-26074),AMS 2404, ASTM B-733 and ISO 4527规范列出的性能要求。 显着的稳定性，适合于不锈钢槽体和设备 无EDTA，也可在完全无氨系统而操作 NIKLAD ELV 807 NIKLAD ELV 807化镍体系没有使用含铅的稳定剂和含镉的光泽剂。因为无铅，无镉，这个化镍体系可以满