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- 2016-08-11 发布于重庆
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晶体三极管的结构特性与参数
一、三极管的结构类型与工作原理
半导体三极管又称为晶体管、三极管、双极型晶体管、BJT 。它由2个背靠背的PN结组成,分为 NPN型、PNP型。由制造的材料又分为硅三极管、锗三极管。
NPN型三极管:c:collector 集电极;b:base 基极;e:emitter 发射极
采用平面管制造工艺,在N+型底层上形成两个PN结。
工艺特点:三个区,二个结,引出三根电极杂质浓度(e区掺杂浓度最高,b区较高,c 区最低);面积大小( c区最大, e区大, b区窄)。
PNP型三极管:在P+型底层上形成两个PN结。
NPN管的工作原理:为使NPN管正常放大时的条件:射结正偏(VBE>0),集电结反偏(VCB>0)。
发射区向基区大量发射电子(多子), 进入基区的电子成为基区的少子,其中小部分与基区的多子( 空穴)复合,形成IB电流,绝大部分继续向集电结扩散并达到集电结边缘。 因集电结反偏,这些少子将非常容易漂移到集电区,形成集电集电流的一部分ICN。 而基区和集电区本身的少子也要漂移到对方,形成反向饱和电流ICBO。
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晶体管的四种工作状态:
1、发射结正偏,集电结反偏:放大工作状态 用在模拟电子电路
2、发射结反偏,集电结反偏:截止工作状态
3、发射结正偏,集电结正偏:饱和工作状态 用在开关电路中
4、发射结反偏,集电结正偏:倒
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