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俄歇电子能谱 俄歇电子能谱 俄歇电子能谱简介 俄歇电子能谱在科研中的应用 深度分析 微区分析 其他 点扫描分析 线扫描分析 面扫描分析 俄歇电子能谱 俄歇电子能谱学(Auger electron spectroscopy，简称AES)，是一种表面科学和材料科学的分析技术。因此技术主要借由俄歇效应进行分析而命名之。这种效应系产生于受激发的原子的外层电子跳至低能阶所放出的能量被其他外层电子吸收而使后者逃脱离开原子，这一连串事件称为俄歇效应，而逃脱出来的电子称为俄歇电子。1953年，俄歇电子 能谱逐渐开始被实际应用于鉴定样品表面的化学性质及组成的分析。其特点在俄歇电子来自浅层表面，仅带出表面的资讯，并且其能谱的能量位置固定，容易分析。 元素沿深度方向的分布分析 原理：先用Ar离子把表面一定厚度的表面层溅射掉，再用AES分析剥离后的表面元素含量，获得元素在样品中沿深度方向的分布。 镀膜金刚石膜层的俄歇分析：镀铬金刚石 15、40、100nm厚俄歇电子能谱图: 从15~40nm区间是碳、铬、氧元素、原子数分数之比相对稳 定的膜层，此区间铬原子数分数约25%、碳原子数分数约 60%、氧原子数分数约13%,亦即接近真实意义的镀铬层， 层厚约25nm;从100nm以后，基本上是碳元素，表示进入 金刚石颗粒内部。 微区分析是现代地质科学研究主要方，在由纳米离子探针和电子显微镜等微区微量原位观测先进技术的有力支撑下，地球科学微观研究已可在微纳尺度上解析地质样品的特性，并催生了纳米地球科学，即从纳米尺度分析地球的物质结构和化学组成，以及能量迁移过程和机制. 俄歇电子能谱由于采用激光束作为激发源，束斑面积可以聚焦到非常小。理论上，俄歇电子能谱选点分析的空间分辨率可以达到束斑面积大小，因此可以在很小的区域内进行选点分析。 PZT薄膜材料中的晶粒大小 俄歇电子能谱可以研究固体表面的能带结构、态密度； 表面物理化学性质如表面吸附、脱附。在材料科学领域， 主要用于材料组分的确定，纯度的检测、薄膜的生长等。 固体表面的研究：右图为被腐蚀的焊垫图片在A、B 两区域的俄歇电子能谱图 固体表面元素分析 右图是由俄歇电子能谱测得的上图 焊垫A、B 两区域部分元素的分布图 其他应用 进行固体表面清洁程度的测定 表面吸附和化学反应的研究 薄膜厚度的测定 界面扩散反应研究 摩擦化学的研究 失效反应的研究 俄歇电子能谱在研究固体化学反应上也有着重要的作用 金刚石耐磨颗粒通常在表面进行预金属化，以提高与基底金属的结合强度。图中看出界面层有两层。结合其他方法分析得出，分别为CrC和Cr3C4。 界面分析 利用样品冲断装置，在超高真空中使样品沿晶界断裂，得到新鲜的清洁断口，然后以尽量短的时间间隔，对该断口进行俄歇分析。对于室温下不易沿界面断裂的试样，可以采用充氢或液氮冷却等措施。 由于俄歇电子能谱具有很高的表面灵敏度，采样深度为1－3nm，因此非常适用于研究固体表面的化学吸附和化学反应。 俄歇电子能谱在固体表面的化学吸附和化学反应 俄歇电子能谱在固体表面的化学吸附和化学反应 通过俄歇电子能谱的深度剖析，可以获得多层膜的厚度。这种方法尤其适用于很薄的膜以及多层膜的厚度测定。 TiO2薄膜层的溅射时间是6min,离子枪的溅射速率为30nm/min，所以薄膜的厚度约为180nm。 谢谢观看