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电涡流传感器 　 本章学习电涡流传感器的原理及应用，并涉及接近开关的原理、结构、特性参数及应用。 第一节 电涡流传感器工作原理 一、电涡流效应 电涡流传感器是根据电涡流效应进行工作的，即利用金属导体置于变化的磁场中，产生感应电流，从而在金属体内形成自行闭合的电涡流线，这种现象称为电涡流效应。 电涡流效应演示 当电涡流线圈与金属板的距离x 减小时，电涡流线圈的等效电感L 减小，等效电阻R 增大。感抗XL的变化比R的变化大 得多，流过电涡流线圈的电流i1增大。 线圈置于金属导体附近： 线圈中通以高频信号i1 正弦交变磁场H1 金属导体内就会产生涡流 涡流产生电磁场 反作用于线圈改变了电感 电涡流原理 电涡流的应用 干净、高效的电磁炉 电磁炉内部的励磁线圈 电磁炉的工作原理 高频电流通过励磁线圈，产生交变磁场，在铁质锅底会产生无数的电涡流，使锅底自行发热，烧开锅内的 食物。 电涡流传感器的等效电路 把被测导体上形成的电涡流等效成一个短路环中的电流，短路环可以认为是一匝短路线圈，其电阻为R1、电感为L1。这样线圈与被测导体便可等效为两个相互耦合的线圈。线圈与导体间存在一个互感M，它随线圈与导体间距x的减小而增大。 电涡流传感器等效电路 根据克希霍夫定律，可列出下面的方程： 传感器线圈的等效阻抗为： 线圈的等效电阻和电感为： 当被测导体的某些参数发生变化时，可引起涡流式传感器线圈的阻抗Z、电感L和品质因数Q变化，测量Z、L或Q就可求出被测量参数的变化。 三、等效阻抗分析 检测深度与激励源频率有何关系？ 电涡流线圈等效阻抗Z的函数表达式为： Z=R+jωL=f（i1、f、?、?、r、x） 如果控制上式中的i1、f、?、?、r不变，电涡流线圈的阻抗可以反映哪个量？属于接触式测量还是非接触式测量？ 电涡流线圈的阻抗变化与金属导体的几何形状、电导率、磁导率及线圈的几何参数、激励电流的频率及线圈到被测金属导体的距离等参数有关。 等效阻抗与非电量的测量 检测深度的控制：由于存在集肤效应，电涡流只能检测导体表面的各种物理参数。改变f，可控制检测深度。激励源频率一般设定在100kHz-1MHz。频率越低，检测深度越深。 间距的测量：如果控制式中的i1、f、?、?、r不变，电涡流线圈的阻抗Z就成为间距x的单值函数，这样就成为非接触地测量位移的传感器。 其他用途：如果控制x、i1、f不变，就可以用来检测与表面电导率?有关的表面温度、表面裂纹等参数，或者用来检测与材料磁导率?有关的材料型号、表面硬度等参数。 涡流式传感器的应用 二、集肤效应 集肤效应与激励源频率f、工件的电导率?、磁导率?等有关。频率f越高，电涡流的渗透的深度就越浅，集肤效应越严重。 当金属导体置于变化的磁场中，产生电涡流，而电涡流在金属导体的纵深方向并不均匀，只集中在金属导体的表面，这种现象称为集肤效应（也称趋肤效）。 电涡流传感器的种类 电涡流在金属导体内的渗透深度为: 说明电涡流在金属导体内的渗透深度与传感器线圈的激励信号频率有关。故电涡流式传感器可分为高频反射式和低频透射式两类。目前高频反射式电涡流传感器应用较广泛。 高频(lMHz)激励电流产生的高频磁场作用于金属板的表面，由于集肤效应，在金属板表面将形成涡电流。与此同时，该涡流产生的交变磁场又反作用于线圈，引起线圈自感L或阻抗ZL的变化。线圈自感L或阻抗ZL的变化与距离该金属板的电阻率ρ、磁导率μ、激励电流i及角频率ω等有关，若只改变距离δ而保持其它参数不变，则可将位移的变化转换为线圈自感的变化，通过测量电路转换为电压输出。 高频反射式涡流传感器多用于位移测量。? 1. 高频反射式电涡流传感器 由安置在框架上的扁平圆形线圈构成。此线圈可粘贴于框架上，或在框架上开一槽，将导线绕在槽内。下图为CZF1型涡流传感器的结构原理，它是将导线绕在聚四氟乙烯框架窄槽内。 1 线圈 2 框架 3 衬套 4 支架 5 电缆 6 插头 高频激励信号使线圈产生一个高频交变磁场φi，当被测导体靠近时，在磁场作用范围的导体表层产生电涡流ie，而电涡流又将产生一交变磁场φe阻碍外磁场的变化。在被测导体内存在着电涡流损耗（当频率较高时，忽略磁损耗）。能量损耗使传感器的Q值和等效阻抗Z降低，因此当被测体与传感器间的距离d改变时，传感器的Q值和等效阻抗Z、电感L均发生变化，于是把位移量转换成电量。这便是电涡流传感器的基本原理。 2. 低频透射式电涡流传感器 发射线圈L1和接收线圈L2分置于被测金属板的上下方。由于低频磁场集肤效应小，渗透深，当低频(音频范围)电压u1加到线圈L1的两端后，所产