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  • 2016-08-17 发布于四川
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(word)浙江大学

赴浙大学习OSF检测技术的出差报告 报告人:高敏 一.待检的硅晶体编号 表1-1 P型 1. YA 2. YB 3. YA 4. YB 5. YA 6. YB N型 7. NA 8. NB 9. NA 10.NB 11.NA 12.NB 二.化学抛光法OSF检测流程 硅片标记并切割 图2-1 硅片的标记 用记号笔在硅片上如图2-1进行划线标记,宽度大约为2cm,四等分。并用金刚笔刻上记号,然后进行切割。如图2-2。进行试验的是5号和11号片子。并把切割好的硅片分为2组,X-1,X-2测原生OSF,X-3,X-4测氧化诱生OSF。并将二者进行对比。 图2-2 线切割 2.硅片的清洗 (1) 酒精浸泡:将同一组试验的片子放在同一个烧杯中,浸入无水乙醇中,用脱脂棉将硅片表面的记号笔擦拭干净。 (2) 超声清洗:无水乙醇+去离子水=1:1,超声2次,再用去离子水超声1次,每次5min。 图2-3 硅片的超声清

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