激光辅助CVD技术的原理及其制备先进材料的研究进展.ppt

*/22 激光辅助CVD技术的原理及其制备先进材料的研究进展 姓名：XXX 学号：2013XXXXX5 专业：材料学 */22 技术难题与前景展望 4. 研究进展 3. 基本原理 2. 引言 1. 主要内容 */22 引言 传统化学气相沉积(CVD) 激光辅助化学气相沉积(LCVD) 沉积温度高 难以实现选区定域沉积 */22 LCVD B E C D A 可用作成膜的材料范围广 局部选区精细定域沉积 膜层纯度高,夹杂少 不需掩膜沉积 沉积温度低 引言 */22 基本原理 光热联合LCVD 光解LCVD 热解LCVD LCVD */22 热解LCVD设备 由反应室、工作台、抽气系统、供气系统和激光系统等组成 [1] 张魁武. 激光化学气相沉积（连载之一）[J]. 金属热处理, 2007, 32(6): 118-126 图1 热解LCVD装置图[1] */22 热解LCVD原理 在聚焦的激光光束照射下，基体局部表面温度升高，处在基体加热区的反应气体分子受热发生分解，形成自由原子，聚集在基体表面成为薄膜生长的核心。 [2] John F. Ready. LIA hand book of laser materials processing [M]. New York: LIA, 1998 图2 热解LCVD机理示意图[2] */22 光解LCVD设备