镁合金腐蚀中文翻译版.doc

高耐腐蚀涂层的纳米镍AZ91D镁纳米镍层AZ91D镁合金直接化学镀镍保护层。作为比较，两个化学镀涂层具有不同厚度也表面的层，扫描电镜和FESEM研究 。经XRD镍层的平均晶粒尺寸约40 nm和明显的（ 200 ）首选纹理涂层约580 VHN ，这是远远高于（约100 VHN ）的AZ91D镁合金。电化学测量结果表明，纳米镍层是最低的腐蚀电流密度和最的腐蚀电位的此外，快速腐蚀试验表明镍层AZ91D镁合金具有很高的耐腐蚀性能原因镁合金耐腐蚀性能的，应归功于晶结构和孔隙度关键词：纳米镍;镁合金;电镀，化学镀镍;腐蚀 在许多行业镁日益重要的轻质金属结构材料（密度为1.74 g/cm3 ），飞机造，航天技术，光学，汽车制造业。然而，上是镁及其合金通常有相对较的腐蚀，这限制了镁合金在实际环境。因此，通常是取改变镁或镁合金工件表面性质，以提高其腐蚀和磨损，可焊性，导电性或装饰外观。这可以通过具有理想所必需的性能。由于镁是最电化学活金属，镁合金任何涂层应，和。金属涂层最具成本效益和基电镀技术，包括化学镀和电镀。此外，镁由于其高反应被列为困难基板板块金属。至于对镁合金，目前有两用于镀镁及镁合金：直接化学镀镍和锌浸泡 。在许多以前的中化学镁合金镍离子基本的碳酸镍镀液中提供。不同于上面提到的方法，直接化学镀镍的AZ91D镁合金最近进行的使用镀液载硫酸镍。近年来，，腐蚀性能和耐磨性。据，展出许多不寻常的与常规多晶或非晶材料力学性能和电化学性能。因此，引入涂层，高耐腐蚀性能与良好的耐磨性镁合金非常有希望。在本，对化学镀镍从酸第一次沉积AZ91D镁合金的保护层，进一步电镀操作，。扫描电镜， FESEM ， XRD和电化学测量研究AZ91D镁合金显微和电化学性能。基体材料是AZ91D镁合金压铸镁合金，大小为30 40 * 5毫米。合金，主要是大约9.1％ 铝，锌0.64％ ，锰0.17％ ， 0.001％ 和镁的平衡。预处理进程样本1500cm碳化硅研磨。镀AZ91D镁合金的技术流程图显示图1 。样品进行去离子水彻底清洁任何两个步骤之间。直接化学镀镍的厚度约上10在AZ91D镁合金被用来作为保护层进一步镀上。电镀镍涂层镁合金是直流电镀含有硫酸镍，氯化镍，硼酸和糖精pH值为5.0和温度为50。在电沉积过程中，用电解镍板阳极。电镀镍涂层进行了约30分钟涂层厚度约15。扫描电子显微镜和场发射扫描电子显微镜分别为观察涂层的表面和横截面的形貌能谱仪用于定性元素化学分析4度/min和0.02使用HXD - 1000微型与维氏硬度计压100克镁合金涂层硬度进行了评（ CHI800 ，上海，中国）3 ％氯化钠水溶液经典的三电极电池板铂（ Pt ）作为电极和Ag/AgCl电极（ 207毫伏作为参比电极线性扫描伏安法实验。在测试之前,将工作电极在丙酮激动超声清洗10分钟。双涂层环氧树脂（内啡肽651 ）1 cm2 的面积进行电化学测试。参比电极和铂电极固定工作电极约0.5毫米以尽量减少由于IR下降。在电位扫描实验对样品3 ％ NaCl溶液浸泡约20分钟以稳定开路。腐蚀电位Ecorr和腐蚀电流密度icorr塔菲尔区外推法从log(i)–E。酸浸泡试验10 ％的盐酸溶液。如果，由于镁，H+将会与镁并变成氢气气泡。因此，第一氢气泡产生的涂层表面可以用来捐赠的耐蚀性涂层的镁合金基体。作为比较镀镍涂层不同厚度（1025微米）也进行了。3.结果和讨论3.1 显微组织和涂料 图2（a）显示的X射线衍射的AZ91D镁合金，这表明合金包括a（）共晶a和b（ Mg17Al12 ）可从X射线衍射图谱图看到（）3显示的是化学镀镍约15分钟，AZ91D镁合金的面覆盖镍。磷含量，因为根据沉积机制镍沉积在表面。X射线衍射分析结果{ 200 }衍射峰对应数据求出，从图2可以看出纳米镍镀层的晶粒尺寸平均40nm，此外，XRD图像同时显示纳米镍镀层具有明显的{ 200 }生长方向。事实上，镍镀层明确择优取向取决于沉积条件，即电解液组成，温度，pH值，电流密度，搅拌和有机添加剂 图3（a）显示的是典型的纳米镍镀层沉积表面的形态，可以看到纳米镍镀层的表面沉积非常致密均匀并非集群结构，完全不同于化学镀镍的“菜花状”表面形态，此外，纳米镍镀层表面展现出的是平整的镜面外观的外貌，它的晶粒尺寸不能用传统的扫描电镜观察。为了清楚地观察的明确的晶粒结构，在扫毛电镜观察前，纳米镍镀层的表面要经过抛光和稀硝酸盐/乙醇 图5（a）显示的是AZ91D表面纳米镍镀层的横断面的表面形态，为了表征基体和两种不同的镍镀层的，基体和保护层分别用带有箭头的直线来标注。从这幅图中我们可以看出镁合金镀保护层前的酸性预处理主要是为了提高镁合金表面的机械联锁附着力在研究中，镍镀层为580?VHN，远远高于AZ91D镁合金基体（约1