KH570改性SiO.docVIP

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2017-06-07 发布于重庆
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KH570改性SiO.doc

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KH570改性SiO

改性机理 KH-570 的分子结构是CH2 C CH3 COO CH2 Si OCH3 3。利用KH-570 对Nano-SiO2 进行表面改性的反应机理如图1 所示，整个偶联反应过程是分步进行的：（1）与硅原子相连的Si-X基水解，生成Si-OH 的低聚硅氧烷；（2）低聚硅氧烷中的Si-OH 与SiO2 基体表面的-OH 形成氢键；（3）加热固化过程中，伴随脱水反应而与基材形成共价键链接。一般认为，界面上硅烷偶偶联水解生成的3个硅羟基中只有一个与基体表面羟基键合；剩下的两个Si-OH，或与其他硅烷的Si-OH 缩合，或呈游离状态。 KH-570 接枝改性Nano-SiO2反应机理 ①将纳米二氧化硅在100℃的温度下干燥12h，取1g干燥好的纳米二氧化硅溶解于醇水比为1:1的醇水介质中，其中无水乙醇的量为10ml，蒸馏水的量为10ml，在超声波清洗器中分散20min；②取18ml无水乙醇和2ml的蒸馏水，在醇水比为9:1的的醇水介质中用稀释的冰乙酸调节pH，使其pH为5，用移液管量取1ml的KH-570加入到呈弱酸性的醇水介质中，常温下机械搅拌水解1h；③将分散好的纳米二氧化硅加入到KH-570的水解液中，同时升温到70℃，在该温度下改性6h；④调节KH-570的量分别为1.5ml、2ml;⑤然后将反应液倒入离心管, 在10000 r/min 转速下离心8min , 倒去上清液,再加入一定量的无水乙醇超声分散离心, 如此反复洗涤3次,将离心后的产物干燥去水后测其的红外谱图，观察改性效果。把两个红外图放到一起，然后分析改性后红外谱图变化