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纳米微粒的四大效应 Different samples of CdSe nanocrystals in toluene solution 可以进行全波段发光。颜色由禁带宽度决定。 电子能态密度与尺度的关系为:随着尺度的降低,准连续能带消失,在量子点出现完全分离的能级。 2-D 量子阱 1-D 量子线 0-D 量子点 3-D 大块材料 **** 2、纳米材料在电子输运过程中的小尺寸效应: 纳米颗粒存在大量的晶界,几乎使大量电子运动局限在小颗粒范围,对电子散射非常强。 (1)晶界原子排列越混乱,晶界厚度越大,对电子散射能力就越强。 (2)界面具有高能垒导致纳米相材料的电阻升高。 3、传统集成电路小型化的技术障碍 (1) 强电场问题 由于尺寸小,在短距离内加偏置电压,器件会产生强电场,载流子在强电场作用下碰撞后,使大量电子具有高能量,出现载流子热化现象,会引起“雪崩击穿”,电流增大,器件破坏。 (2) 热损耗问题 器件尺度减小和集成电路密度提高,散热问题会越来越重。 (3) 体材料特性消失和小尺度半导体掺杂非均匀性 MOSFET栅长为50 nm,宽度为100 nm为例,如果沟道中电子数目为2? 1012/cm2,在沟道中平均大约有100个电子, 如果存在单个杂质涨落,受载流子相位干涉控制,电导的变化将不是1%,而是e2/h,大约为40?S。如果器件的电导为1S,涨落可达40%。 造成器件稳定性变差。 解决方法:一、完全不掺杂;二、使掺杂原子形成规则阵列。 3、传统集成电路小型化的技术障碍 3、传统集成电路小型化的技术障碍 (4) 耗尽区减小 当器件处于“关”的状态,由于耗尽区太薄,不能阻止从源极到漏极的电子量子力学隧穿。 (5) 氧化层厚度减小和非均匀性 当氧化层薄到一定尺度就不能阻止电子从栅极漏出到达漏极。 氧化层不均匀时,通过薄的地方漏电流会很大。总的漏电流达到一定程度就会影响器件的功能。 3、传统集成电路小型化的技术障碍 (6) 载流子输运形式改变 欧姆定律:扩散输运(晶格、杂质、缺陷); 当尺寸小于电子平均自由程,电子输运过程中可能不会受到散射而通过样品,称为弹道(ballistic)输运。看上去,电阻应为0; 实验表明:纳米材料的电导不会无限大,而是趋于一个极限值。 电阻来源于不同材料的界面或不同几何区域的边界。 在界面上,由于界面势垒的存在,一部分电子被反射回来,另一部分以隧穿方式穿过势垒。 4、小尺寸效应的主要影响 (1)金属纳米相材料的电阻增大与临界尺寸现象 (电子平均自由程) (2)宽频带强吸收性质 (光波波长) (3)激子增强吸收现象 (激子半径) (4)磁有序态向磁无序态的转变(超顺磁性) (磁各向异性能) (5)超导相向正常相的转变 (超导相干长度) (6)磁性纳米颗粒的高矫顽力 (单畴临界尺寸) **** 光学 当黄金被细分到小于光波波长的尺寸时,即失去了原有的富贵光泽而呈黑色。事实上,所有的金属在超微颗粒状态都呈现为黑色。尺寸越小,颜色愈黑,银白色的铂(白金)变成铂黑,金属铬变成铬黑。 由此可见,金属超微颗粒对光的反射率很低,通常可低于l %,大约几微米的厚度就能完全消光。 利用这个特性可以作为高效率的光热、光电等转换材料,可以高效率地将太阳能转变为热能、电能,还可能应用与红外敏感元件和红外隐身技术。 热学 固态物质在其形态为大尺寸时,其熔点是固定的; 超细微化后却发现其熔点将显著降低,当颗粒小于10 nm 量级时尤为显著。 例如,块状金的常规熔点为1064 ℃,当颗粒尺寸减小到10 nm尺寸时,则降低27℃, 2 nm尺寸时的熔点仅为327℃左右。 4.4 库伦堵塞与量子隧道效应 1. 库仑堵塞效应 当对一个小体系充电时,由公式 可知, 球体半径R越小,充相同电量的电,所需作功越大。 充一个电子所做的功为: 对比久保理论中取出或放入一个电子的能量~e2/d,二者结果相似。 1、 库伦堵塞效应 上式可知:颗粒尺寸减小,充一个电子所做的功越大。 当导体尺度进入纳米尺度时,充放电过程很难进行,或充、放电过程变得不能连续进行,即体系变得电荷量子化。这个能量称为库仑堵塞能。 换句话说,库仑堵塞能是前一个电子对后一个电子的库仑排斥能。 这就导致了对一个小体系的充放电过程,电子不能集体运输,而是一个一个的单电子传输。 由于库仑堵塞效应的存在,电流随电压的上升不再是直线上升(欧姆定律),而是在I—V曲线上呈现锯齿形状的台阶。(见下图) 通常把小体系这种单电子运输行为,称为库仑堵塞
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