光电子学(第四章11)详解.ppt

掩模对离子起挡板作用， 离子通过开槽运动，开槽区： Na+脱离基片向熔液扩散； Ag+向基片扩散，取代Na+位置。轻Na+被重Ag+取代基片窄条n?，形成条纹通道波导。 外加E强化Ag+向基片扩散，缩短t，得较深均匀扩散。 向基片扩散 脱离基片向熔液扩散 图基于离子交换用钠钙玻璃（SiO2，Na2O和其他金属氧化物混合物）制通道波导原理。 玻璃基片涂掩模，上开窄条形槽，浸入AgNO3熔融物。 4-1光在介质分界面上反射与折射 4-2介质平板上光波导射线分析方法 4-3平板波导电磁理论 4-4矩形介质波导基本概念 4-5光纤中射线分析 4-6光纤中电磁波模式理论 4-7光纤损耗与色散 4-8光波导装置与应用 1. 平板波导加工 2. 基片的制备 3. 波导膜的沉积与生长 4. 材料的改性 5. 刻 蚀 6. 金属板印刷 一、波导的制造 二、开关和调制器 三、干涉滤波器 ① 扩 散 ② 离子交换与质子交换 ③ 离子注入 离子注入——用于半导体掺杂。原理： 离子进基片，不同方式高真空进行，装置复杂昂贵。 离子源熔融炉，静电法抽取离子束，含不同离子， 注入元素单电荷离子，有双电荷和杂质离子。 对电荷或原子重量敏感滤波器（质量或维恩Wien过滤器）， 选种离子，选出离子束被高压（100-1000kV）加速，离子高速打击基片，进入。 进入基片离子与基片原子不断碰撞损失能量。 最终某深度停，实现离子注入。 基片原子碰撞错位，注入结束对基片退火。 4-1光在介质分界面上反射与折射 4-2介质平板上光波导射线分析方法 4-3平板波导电磁理论 4-4矩形介质波导基本概念 4-5光纤中射线分析 4-6光纤中电磁波模式理论 4-7光纤损耗与色散 4-8光波导装置与应用 1. 平板波导加工 2. 基片的制备 3. 波导膜的沉积与生长 4. 材料的改性 5. 刻 蚀 6. 金属板印刷 一、波导的制造 二、开关和调制器 三、干涉滤波器 ① 扩 散 ② 离子交换与质子交换 ③ 离子注入 膜层制好，成形，去除不需材料——刻蚀。 去除或刻蚀，依据纯物理或化学过程，可结合。 根据： 是否要求真空和 有无用掩模分类。 早期化学湿刻蚀； 现代微加工含真空刻蚀； 后者——刻蚀。 设备复杂，改进控制水平，有高度可选择性和定向性优点，广泛用。 4-1光在介质分界面上反射与折射 4-2介质平板上光波导射线分析方法 4-3平板波导电磁理论 4-4矩形介质波导基本概念 4-5光纤中射线分析 4-6光纤中电磁波模式理论 4-7光纤损耗与色散 4-8光波导装置与应用 1. 平板波导加工 2. 基片的制备 3. 波导膜的沉积与生长 4. 材料的改性 5. 刻 蚀 6. 金属板印刷 一、波导的制造 二、开关和调制器 三、干涉滤波器 干刻蚀：纯物理，物理/化学结合法。 物理法（1）——溅射法： 被刻蚀材料原子受离子轰击从表面发射。 过程射频溅射刻蚀，射频溅射沉积变型，电极连接与沉积过程相反，基片不是靶被轰击，离子打击基片有角度，刻蚀有方向性。 物理法（2）——离子束刻蚀： 直流溅射镀膜变型。 4-1光在介质分界面上反射与折射 4-2介质平板上光波导射线分析方法 4-3平板波导电磁理论 4-4矩形介质波导基本概念 4-5光纤中射线分析 4-6光纤中电磁波模式理论 4-7光纤损耗与色散 4-8光波导装置与应用 1. 平板波导加工 2. 基片的制备 3. 波导膜的沉积与生长 4. 材料的改性 5. 刻 蚀 6. 金属板印刷 一、波导的制造 二、开关和调制器 三、干涉滤波器