半导体用之光阻剂简介与合成树脂之应用.docVIP

半導體用之光阻劑簡介與合成樹脂之應用 經濟部技術處ITIS計畫／產業分析師 尤浚達 光阻是一種暫時塗佈在晶圓上的感光材料，和底片感光材料相似，受照射後產生化學反應，可將光罩上之光學圖案轉印到晶圓表面上。光阻主要可分為正型、負型或雙型光阻，亦可分為非化學放大型或化學放大型光阻，其原理如表一所示。 表一　半導體用之光阻劑彙總表 光阻類型 說　　　明 非化學放大型 正型光阻 能達到微米圖形尺寸所要求的解析度，為多數半導體廠使用，其聚合物成份為酚醛 Phenol-formaldehyde 或環氧樹酯 Novolac型 ，常用醋酸鹽類的溶劑。 負型光阻 最普遍的負光阻聚合物為聚異戊二烯 Polyisoprene 橡膠，可溶於顯影液中。其解像度較差，但熱安定性及抗蝕刻性比正型光阻好，常使用二甲苯為溶劑。 雙型光阻 依顯影液不同而有不同效果之光阻稱為雙型光阻︰如以鹼性之顯影劑溶解時，照射區之圖案消失，留下未照射區；若改以有機溶濟為顯影液，則可產生負型光阻劑之效果。 化學放大型 光酸催化型 目前化學放大型光阻劑以光酸來進行催化化學反應，但易與空氣、基材中鹼性化合物作用，因而破壞成像輪廓。 光鹼催化型 目前已在發展階段，其催化反應與光酸相似，光鹼不受鹼性化合物之影響，較易溶於有機溶劑中。 資料來源：工研院IEK-ITIS計畫 2004/12 ITIS專欄 產業的智庫－ITIS ITIS是經濟部技術處為提昇我國產業競爭力，促成產業升級而執行的一項計畫，中文全名為「產業技術資訊服務推廣計畫」，英文全名為Industrial Technology Intelligence Service Promotion Project。