天科合达2英寸6H导电型SiC晶片产品标准.docVIP

天科合达2英寸6H导电型SiC晶片产品标准.doc

  1. 1、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。。
  2. 2、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载
  3. 3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
  4. 4、该文档为VIP文档,如果想要下载,成为VIP会员后,下载免费。
  5. 5、成为VIP后,下载本文档将扣除1次下载权益。下载后,不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们
  6. 6、成为VIP后,您将拥有八大权益,权益包括:VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
  7. 7、VIP文档为合作方或网友上传,每下载1次, 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等,对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
天科合达2英寸6H导电型SiC晶片产品标准

天科合达2英寸4H导电型SiC晶片产品标准 Silicon Carbide SiC Substrate Specification 2 inch 50.8mm diameter, 4H polytype, N-type 等级 Grade A B C 晶型 Polytype H 4H 4H 直径 Diameter 50.80±0.38mm 2.000″±0.015″ 50.80mm±0.38mm 2.000″±0.015″ 50.80mm±0.38mm 2.000″±0.015″ 厚度 Thickness 330/430 μm±25μm 330/430 μm±25μm 330/430 μm±25μm 载流子类型 Carrier Type N型 N-type N型 N-type N型 N-type 电阻率 Resistivity 0.02Ωcm ~0.03 Ω·cm 0.012Ωcm ~0.03 Ω·cm 0.012Ωcm ~0.1Ω·cm 晶片方向 Wafer Orientation 0.0°/4.0°/8.0°±0.5° 0.0°/4.0/°8.0°±0.5° 0.0°/4.0/°8.0°±0.5° 总厚度变化弯曲度翘曲度Bow /Warp <25μm <25μm <25μm 微管密度 Micropipe Density < cm-2 < cm-2 < cm-2 表面粗糙度 Roughness Polish< nm Polish Ra< nm Polish Ra< nm CMP Ra<0. nm CMP Ra<0. nm CMP Ra<0. nm 半高宽 FWHM < arcsec < arcsec < arcsec 边缘 Edge exclusion 1 mm 1 mm 1 mm 主定位边方向 Primary Flat Orientation ±5.0° 10-10 ±5.0° 10-10 ±5.0° 主定位边长度 Primary Flat Length 15.±1.7 mm 0.625″±0.065 ″ 15.9 mm±1.7 mm 0.625″±0.065 ″ 15.9 mm±1.7 mm 0.625″±0.065 ″ 次定位边方向 Secondary Flat Orientation C-face:90° ccw.rom orientation flat ??5° C-face:90° ccw. from orientation flat ??5° C-face:90° ccw. from orientation flat ??5° Si-face:90° cw. from orientation flat ??5° Si-face:90° cw. from orientation flat ??5° Si-face:90° cw. from orientation flat ??5° 次定位边长度 Secondary Flat Length 8.0m±1.65 mm 0.315″±0.065″ 8.0 mm±1.65 mm 0.315″±0.065″ 8.0 mm±1.65 mm 0.315″±0.065″ 裂纹 强光灯观测 Cracks by high intensity light 无 None 无 None 小于3个,每个小于2mm 3 allowed ≤2mm each 杂晶(强光灯观测) Hex Plates by high intensity light 无 None 少于2个,累积面积 1% Less than 2,Cumulative area 2% 累积面积 2% Cumulative area 2% 多型 强光灯观测 Polytype Areas by high intensity light 无 None 无 None ≤3 % area 划痕 强光灯观测 Scratches by high intensity light 无 None 无 None 无 None 表面污染物(强光灯观测) Contamination by high intensity light 无 None 无 None 无 None 有用面积 Usable area >0% >% >0% * For detailed quotes and special requirements please contact our sales office.

文档评论(0)

peain + 关注
实名认证
文档贡献者

该用户很懒,什么也没介绍

1亿VIP精品文档

相关文档