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天科合达2英寸6H导电型SiC晶片产品标准
天科合达2英寸4H导电型SiC晶片产品标准
Silicon Carbide SiC Substrate Specification
2 inch 50.8mm diameter, 4H polytype, N-type
等级
Grade A B C 晶型
Polytype H 4H 4H 直径
Diameter 50.80±0.38mm
2.000″±0.015″ 50.80mm±0.38mm
2.000″±0.015″ 50.80mm±0.38mm
2.000″±0.015″ 厚度
Thickness 330/430 μm±25μm 330/430 μm±25μm 330/430 μm±25μm 载流子类型
Carrier Type N型
N-type N型
N-type N型
N-type 电阻率
Resistivity 0.02Ωcm ~0.03 Ω·cm 0.012Ωcm ~0.03 Ω·cm 0.012Ωcm ~0.1Ω·cm 晶片方向
Wafer Orientation 0.0°/4.0°/8.0°±0.5° 0.0°/4.0/°8.0°±0.5° 0.0°/4.0/°8.0°±0.5° 总厚度变化弯曲度翘曲度Bow /Warp <25μm <25μm <25μm 微管密度
Micropipe Density < cm-2 < cm-2 < cm-2 表面粗糙度
Roughness Polish< nm Polish Ra< nm Polish Ra< nm CMP Ra<0. nm CMP Ra<0. nm CMP Ra<0. nm 半高宽
FWHM < arcsec < arcsec < arcsec 边缘
Edge exclusion 1 mm 1 mm 1 mm 主定位边方向
Primary Flat Orientation ±5.0° 10-10 ±5.0° 10-10 ±5.0° 主定位边长度
Primary Flat Length 15.±1.7 mm
0.625″±0.065 ″ 15.9 mm±1.7 mm
0.625″±0.065 ″ 15.9 mm±1.7 mm
0.625″±0.065 ″ 次定位边方向
Secondary Flat Orientation C-face:90° ccw.rom orientation flat ??5° C-face:90° ccw. from orientation flat ??5° C-face:90° ccw. from orientation flat ??5° Si-face:90° cw. from orientation flat ??5°
Si-face:90° cw. from orientation flat ??5°
Si-face:90° cw. from orientation flat ??5°
次定位边长度
Secondary Flat Length 8.0m±1.65 mm
0.315″±0.065″ 8.0 mm±1.65 mm
0.315″±0.065″ 8.0 mm±1.65 mm
0.315″±0.065″ 裂纹 强光灯观测
Cracks by high intensity light 无
None 无
None 小于3个,每个小于2mm
3 allowed ≤2mm each 杂晶(强光灯观测)
Hex Plates by high intensity light 无
None 少于2个,累积面积 1%
Less than 2,Cumulative area 2% 累积面积 2%
Cumulative area 2% 多型 强光灯观测
Polytype Areas by high intensity light 无
None 无
None ≤3 % area 划痕 强光灯观测
Scratches by high intensity light 无
None 无
None 无
None 表面污染物(强光灯观测)
Contamination by high intensity light 无
None 无
None 无
None 有用面积
Usable area >0% >% >0% * For detailed quotes and special requirements please contact our sales office.
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