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EDA技术应用总结报告 基于ＥＤＡ技术的８位十进制数字频率计设计 院（系、部）： 姓 名： 班 级： 指导教师签名： 2013年 11 月 13 日 目录 1 EDA发展最新动态? 3 1.1功能验证 3 1.2混合信号验证 3 1.3可制造性设计 3 2 EDA技术的概念 3 3 基于ＥＤＡ技术的８位十进制数字频率计 4 3.1引言 5 3.2软件开发环境 4 3.3设计方案 5 3.4、数字频率计模块电路设计 5 3.4.1分频计设计 6 3.4.2测频控制信号发生器设计 6 3.4.3 ８位十进制计数器ｃｎｔ３２ｄ的设计 6 3.4.4锁存器ｒｅｇ３２设计 7 3.4.5动态扫描译码驱动器ｄｅｃｏｄｅ设计 7 3.4.6数字频率计顶层电路图 8 3.5硬件测试及验证 8 4 分析 9 5 参考文献 12 1 EDA发展最新动态? （1）、功能验证(Functional?Verification)：随着制造工艺的进步，单位面积上所能容纳的器件数暴增。设计师可以有足够的空间设计出前所未有的复杂电路，但是要如何验证这么庞大电路功能的正确性却仍是一项棘手的挑战。明显地，设计能力以及验证能力中间存在着难以跨越的鸿沟。研究指出，在整个产品研发周期中，有趋近于80%左右的时间都是花在功能验证上。因此若要大幅提前产品上市的时间，首要必须解决验证的瓶颈。传统的仿真工具已经无法应付百万门级以上的设计验证需求，举例来说，单就1分钟的MPEG编码进行Verilog仿真可能要花费数个月的时间；但若是采硬件方针，只需要5分钟。Mentor持续的在最新的验证技术上进行投资，对于最新的验证方法学也不断推陈出新。Mentor能帮助客户轻松转化到下一代系统设计和设计方法，以应对设计周期并最大程度减少设计复杂度。 （2）、?混合信号验证(Mixed?Signal)：传统的设计流程是把模拟和数字系统独立开发，常带来设计速度慢、昂贵，甚至不适当的副作用，而Mentor的ADMS混合设计工具所提供的自动化功能可帮助去除这道数模隔阂，能够支持模拟、数字和混合信号设计方法中自上而下(top-down)和由下而上(bottom-up)的验证手段──Eldo工具用于模拟仿真，ModelSim用于数字仿真，让混合信号的SoC设计者能通过与数字电路“硬件描述语言与行为级模型”相仿的工具轻松自动转换。?? （3）、DFM(Design?for?Manufacturing，可制造性设计)：过去，设计和制造往往也是独立的，在工作上并无太多交集；但对于深亚微米、纳米级时代的到来，给出高良品率的设计的能力是很关键的，对微影和良率分析工具的需求也就跟着风生水起。这也是为何近年来DFM每年能以15%的速度增长，远高于EDA?2%～3%的年增长率的原因。整合能提供统计资料的软件工具，以协助改善设计、加强良率是根本之道，此外和晶圆代工厂保持良好的合作关系，以适应工艺的差异也是不可或缺的一环。为此，Mentor和国内多家晶圆代工厂皆往来密切，以确保国内能使用先进工艺。?DFM是一种评估制造工艺可变性的设计方法，从而更容易地控制集成电路的制造，达到提高良率并降低生产成本的目的。其中又以与微影相关的环节影响最大。OPC(光学接近校正)是让现有光刻设备能够不断向下挑战微影尺寸极限的一种技术。随着制程工艺的微缩、微影掩膜技术的盛行，用OPC来修正掩膜板，是近来在制造端所兴起的一种热门工艺。然而这种利用光学邻近效应来进行补偿的OPC做法，也带来了一些问题：使掩膜板的复杂性倍增，尤其在芯片的线宽进入90nm以下的工艺后。一旦流片遭遇失败，动辄以数百万美金计的高昂掩模成本，迫使业者努力在设计与制造之间搭起一座桥梁，以串起IP供应商、EDA工具供应商、设计公司、晶圆厂和掩模厂之间的联系，于是对于DFM的呼声便日益高涨。?DFM对于采晶圆委外代工的Fabless厂家更是迫切，因为以往必须直到产品测试完成，设计公司才能知道产品的良率好坏。如果没有借助EDA厂商之力在设计早期预测产品可能在生产中遭遇的瓶颈，等到产品生产后才发现成品率低落，这样的幡然省悟，恐怕为时已晚！光是想想那些报废的亮晃晃芯