前瞻性高分子奈米术与材料之开发三年计画.doc

前瞻性高分子奈米技術與材料之開發三年計畫 分項計畫A：高分子/無機奈米複合光學膜開發與應用子計畫A1及A2：熱固性高折射率薄膜材料技術/感光性高折射率薄膜技術材料感光性高折射率薄膜技術材料計畫目標： 本計畫主要是將具有高折射率奈米粒子，以各種化學鍵結力摻雜於聚醯亞胺(Polyimide)或壓克力高分子中，進而利用紫外光或熱交聯原理製備出高折射率高分子/無機奈米複合薄膜。在高折射率有機無機混成材料部分，以Polyimide或壓克力與具有高折射率之奈米級粉體(TiO2,SnO2, PbS等)混成材料為主，在實驗設計上首先合成出含末端官能基及分子量控制之高分子，接著再將奈米級粉體以共價鍵結方式均勻分佈於高分子主體中，而製備出具應用性之高折射率光學膜。 計畫執行內容： 1.官能化高折射率無機奈米顆粒製備 製備具有高度分散穩定性的奈米氧化物懸浮液的主要方式，可分為兩大類：一為利用化學溶液法直接合成含有特殊粒子尺寸及固含量的膠體溶液；另一為利用化學改質等修飾法間接分散固相粒子以獲得穩定之懸浮液。上述第一類方法常見的如有溶膠-凝膠合成法，此法的優點在於容易獲得小粒徑、高固含量、且分散均勻的奈米膠體溶液，但缺點則是由於此法通常是在低溫下進行反應因此有-OH基殘存問題。第二類方法的優點為奈米氧化物粉體的來源不受到限制，所以粉體的種類和物性可根據需求作適當的挑選。因此本研究將以下列二方法製備官能化無機奈米顆粒: (a)利用溶凝膠法製備官能化無機奈米顆粒： (b)使用市售無機奈米粉體 2.製備熱固性高分子前驅溶液 (a)製備壓克力前驅溶液(第一年)： (b)製備Polyimide前驅溶液(第二年)： 3.製備熱固性高折射率奈米複合光學膜 (a)Acrylic/奈米粉體複合光學膜(第一年)： (b)Polyimide(PI)/奈米粉體複合光學膜(第二年)： 4.光固化交聯型高折射率高分子奈米複合光學膜 ?(a)官能化無機奈米顆粒：製備方法如前所述。 (b)製備感光性高分子前驅溶液: 主要工作項目如下： 本計畫主要是將具有高折射率奈米粒子，以各種化學鍵結力摻雜於聚醯亞胺(Polyimide)或壓克力高分子中，進而利用紫外光或熱交聯原理製備出高折射率高分子/無機奈米複合薄膜。在高折射率有機無機混成材料部分，以Polyimide或壓克力與具有高折射率之奈米級粉體(TiO2,SnO2, PbS等)混成材料為主，在實驗設計上首先合成出含末端官能基及分子量控制之高分子，接著再將奈米級粉體以共價鍵結方式均勻分佈於高分子主體中，而製備出具應用性之高折射率光學膜。 子計畫A3：低折射率奈米孔洞光學膜製備及開發計畫目標： 本計畫目標將以所開發之高低折射率搭配製備出多層抗反射光學膜，在材料設計上選擇以無機有機混成材料為主，並將無機Oxide相控制於奈米尺寸；在光學設計上，需先在基材上塗佈一層高折射率薄膜，然後在塗佈一層低折射率薄膜，藉此高低折射率互相搭配組合製備多層抗反射膜。 計畫執行內容： 1. 利用雙親性高分子製備低折射率奈米孔洞光學膜(第一年) 2. 利用POSS製備低折射率奈米孔洞光學膜(第二年) 3.製備多層奈米複合抗反射膜 (第二及第三年) 主要工作項目如下： 本計畫主要是利用矽烷化合物(Silica or Silsesquioxane)作為薄膜主體，再加入適當之高分子模板材料(孔洞生成材料)，如雙親性高分子或樹枝狀高分子，以熱燒結之方式將其去除，藉此產生奈米級之孔洞，因為空氣孔洞本身之折射率為1，因此可藉由孔洞的導入比例來有效降低其折射率。模版材料選擇之標準為可與矽烷化合物混合時具有良好之相容性，因此適當之末端基物理鍵結(如氫鍵)是必要條件，其次可以旋轉塗佈成dip coating成均勻薄膜，且可於加熱固化過程成均勻微相分離，且其裂解溫度必須大於矽烷化合物之固化溫度。 well, with the effectiveness of services to defend the interests of the masses. Third, we should strive to do well. To achieve good practical results, the key is to know the law, to grasp the laws and using laws. Office of economic development, social progress, there are rules to follow. Only act according to the law, to overcome blindness and strengthening initiati