2008薄膜物 试 题A卷.docVIP

哈工大 2008 年 春 季学期 班号 姓名 薄膜物理 试 题A卷 题号 一 二 三 四 五 六 七 八 九 十 总分 分数 一、填空 (每个1分，共10分) 1. 在离子镀膜成膜过程中，同时存在 和 作用，只有当前者超过后者时，才能发生薄膜的沉积 2. 薄膜的形成过程一般分为： 、 、 三种过程。 3．薄膜形成与生长的三种模式分别为 ， ， 。 4．在气体成分和电极材料一定条件下，起辉电压V只与 和 的乘积有关 二、解释下列概念 (每个2分，共10分) 1. 气体分子的平均自由程 2．饱和蒸气压 3．凝结系数 第 1 页 （共 7 页） 试 题： 班号： 姓名： 4. 物理气相沉积 5．溅射