半导体制程检测新技术( doc ) .docVIP

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2017-06-08 发布于重庆
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半导体制程检测新技术( doc ) .doc

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半导体制程检测新技术( doc )

半導體製程檢測新技術利用X光 X-ray 所發展的小角散射術 small angle X-ray scatterometry；SAXS ，量測解析度遠高於傳統使用深紫外光 deep ultraviolet；DUV 的散射術。本文將利用美國國家標準與技術研究院 National Institute of Standards and Technology；NIST 所發展的小角散射術及芝加哥美國能源部國家實驗室 Argonne National Laboratory；ANL 的先進光子源 advanced photon source；APS 同步輻射加速器的X光來量測疊對光柵之疊對誤差。在此我們製作了一多組疊對光柵，且每組彼此之間具有1 nm的疊對誤差差值，利用小角散射理論或是嚴格耦合波理論 rigorous coupled-wave analysis；RCWA 分析其散射訊號，可得其三維結構及疊對位移值。從分析的數據可知，利用X光的小角散射術具有非常好的疊對位移解析度，其對於未來先進半導體製程檢測將是一大利器。