各种材料分析仪原理与比较.docVIP

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  • 2016-10-20 发布于广东
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各种材料分析仪原理与比较

材料分析的方法及原理 一般材料的分析技術可以概分為結構分析(物性)與成份分析(化性)兩大類。其分析方法多利用一入射粒子束(Source)如電子束、離子束、光束(含可見光及X光射線)及微探針(Probe)等,與試片作用產生各種二次粒子後,偵測其作用後產生的訊號,來分析材料各項材料特性。 一般常見的材料分析技術,不外乎想要得知試片的(1)表面或材料內部的顯微結構影像,此類的代表儀器包括掃描式電子顯微鏡(SEM)、穿透式電子顯微鏡(TEM)及原子力顯微鏡(AFM)等; (2)材料成份分析,此類的代表儀器包括X光能量散佈分析儀(EDS)、表面化學分析儀(ESCA)、歐傑電子顯微鏡(AES)及二次離子質譜儀(SIMS)等; (3)材料結晶結構鑑定與分析,此類的代表儀器包括X光繞射分析儀(XRD)及穿透式電子顯微鏡(TEM)等。 常見的儀器有(1)光學顯微鏡 (Optical Microscope, OM);(2)掃描式電子顯微鏡 (Scanning Electron Microscope, SEM);(3)X光能譜分析儀 (X-ray Spectrometry);(4)穿透式電子顯微鏡 (Transmission Electron Microscope, TEM);(5)聚焦式離子束顯微鏡 (Focused Ion beam, FIB);(6)X光繞射分析儀 (X-ray Di

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