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相關抗反射材料 班級: 奈米三乙 組員: 張君瑋 張翔茹 鄭響宇 報告內容 填充抗反射材料開發 光學上的抗反射原理 抗反射材料的應用產品 抗反射微結構 -Moth‘s Eye 蛾眼效應 太陽能電池工作原理 填充抗反射材料開發 對填充抗反射材料設計而言，三項主要的技術特性須要掌握。 (a)填充性(Filling property) (b)蝕刻選擇比(Etching selectivity)及吸光係 數 (c)與光阻劑相容性(Resist compatibility) (a)填充性(Filling property) 通常填充的行為會受到通孔的深寬比、通孔的密度、填充 材料的厚度、填充材料的化性(高分子結構和分子量)的影 響。 本文使用三種不同化性的填充材料，及選擇兩種不同的填 充材料的厚度；140nm和160nm來研究填充材料的化性和厚 度對填充行為的影響。 (圖一) 如(圖一)所示，在兩種不同圖案的密度、兩種不同的填充材料的厚度(140nm and 160nm)和三種不同填充材料的化性其填充特性的剖面圖。填充的行為很難定量，但由此剖面圖顯示比較厚的填充材料，會有比較小的高低落差(I-D bias)。 (圖二) 如(圖二)所示，材料C有較大的操作條件，在較厚的厚度下 有最小的高低落差。 (b) 蝕刻選擇比及吸光係數 在此專對蝕刻選擇比及吸光係數的關係做一探 討。針對於高分子的蝕刻速率，其定義如下： Ohnishi number = Total Atomic Number/(Total Carbon Number – Total Oxygen Number)? (圖三) Ohnishi number和蝕刻選擇比的關係 圖三顯示，當使用CF4/O2/Ar為蝕刻反應氣體 時，Ohnishi number和蝕刻選擇比有很強的正相關性 (c)與光阻劑的相容性 光阻劑的相容性對於一個有著高低落差的微影製程，是非常重要的， 主要是因為相容性低的材料易於造成圖案的倒塌。 (圖五) 圖案的倒塌率和材料的關係圖 如圖五所示，材料C1顯示有較佳的相容性，因為其相同的實驗條件下有 著相對較低的倒塌，其中“X”表示倒塌，“V”表示沒有發現倒塌 。 最後根據以上之研究結果可知，被設計用來使用在 雙鑲崁製程的主要的三項需求為 : 1. 較低的高低落差填充性 2. 高的蝕刻選擇比且最適化的吸光係數 以獲得較佳的線寬分布 3.良好的光阻劑相容性以提供較為寬廣的操作條件 光學上的抗反射原理 主要是利用光線在不同介質中藉由控制反射塗層之折射率 與厚度的相乘積等於入射波長１/４奇數倍的效應而產生干涉效果，以獲得抗反射效果。 抗反射材料的應用產品 1. 個人電腦、筆記型電腦 2. 數位相機、手錶鏡面 3. 行動電話、PDA 4. LCD TV 、PSP 5. 抗反射玻璃 應用於電子產品 - 保護模貼 AR防反光防電磁輻射保護膜 基本上採用pet材質，三層防刮抗電磁輻射結構。保護膜 厚度: 0.25mm左右。 防反光，抗電磁幅射，有效過濾紫 外線。防反光，抗電磁輻射,有效過濾紫外線。 静電吸附 技術，不含膠水可多次黏貼。耐磨度極高、耐用。 透光度達到99%，畫面清晰鲜明。這種在市場上比較熱 門，質量參差不齊。 抗反射玻璃 原理: 利用特殊工藝的雙面防反射涂層，與普通玻璃相比，光的平均透過率提高5%，反射率由8- 10% 降低到1.5%以下。 抗反射玻璃應用 /buyer/offerdetail/866252628.html  抗反射玻璃應用 抗反射玻璃應用 3.溫室大棚玻璃，增加蔬菜產量。 抗反射微結構 -Moths Eye 蛾眼效應 當材料表面次微米微結構尺度小於光波長時，使得光波無 法辨識出該微結構，於是在材料表面的折射率沿深度方向 呈連續變