离子束沉积薄膜技术及应用解析.docVIP

中国科学院上海光学精密机械研究所 博士研究生读书笔记 (基础理论课) 课程名称： 离子束沉积薄膜技术及应用 学科专业： 光学工程 学生姓名： 王聪娟 导师姓名： 邵建达、范正修 入学时间： 2005年9月 2007年12月10日 目 录 1. 引言 2 2. 离子束沉积（IBD）薄膜原理 3 2.1 离子束的输运及非热平衡沉积过程 3 2.2 惰性气体离子的气种效应 4 2.3 离子束轰击固体表面引起的重要效应 5 3. IBSD薄膜技术及应用 8 3.1 控制生长薄膜结构及性质的方法 8 3.2 薄膜结构与薄膜内应力 9 3.3 IBSD薄膜技术的典型应用 9 4. 双离子束溅射沉积(DIBSD)薄膜技术 10 5. IBRSD薄膜方法及应用 10 6. IBAD 薄膜方法及应用 12 6.1 离子轰击对生长薄膜的基本作用 12 6.2 IBAD方法概述 14 6.3 IBAD光学薄膜的应用 16 引言 本读书笔记主要参照《离子束沉积薄膜技术及应用本书系统地介绍了薄膜技术的原理、方法及应用，重点放在技术基础论述、制备方法研究和应用方面展现出了薄膜技术的科技研究与应用硕果。为提供了可直接引用的方法、数据及结果。在离子源发射的离子到达靶面所经历的输运过程中，离子与气体原子或与其他粒子可能发生多种形式的碰撞。其中，最重要的碰撞形式是离子与原子之