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例 已知 ?nCOXW/ 2l 0.25 mA/V2,VGS th 2 V,求 ID 。 解: 假设 T 工作在放大模式 VDD +20 V 1.2 M? 4 k? T S RG1 RG2 RD RS 0.8 M? 10 k? G ID 代入已知条件解上述方程组得: ID 1 mA VGS 4 V 及 ID 2.25 mA VGS -1 V 舍去 VDS VDD - ID RD + RS 6 V 因此 验证得知: VDS VGS–VGS th , VGS VGS th , 假设成立。 小信号等效电路法 场效应管小信号等效电路分析法与三极管相似。 分析交流指标。 画交流通路; 将 FET 用小信号电路模型代替; 计算微变参数 gm、rds; 注:具体分析将在第 4 章中详细介绍。 3.2 结型场效应管 JFET 结构示意图及电路符号 S G D S G D P + P + N G S D N 沟道 JFET P 沟道 JFET N + N + P G S D N沟道 JFET 管外部工作条件 vDS 0 保证栅漏 PN 结反偏 vGS 0 保证栅源 PN 结反偏,实际小于VD on 即可 JFET 管工作原理 P + P + N G S D - + vGS vDS + - vGS 对沟道宽度的影响 |VGS | ? 阻挡层宽度? 若 |VGS | 继续? 沟道全夹断 使 VGS VGS off 夹断电压 若 vDS 0 N G S D + vGS P + P + N 型沟道宽度? 沟道电阻 Ron? vDS 很小时 → vGD ? vGS 由图 vGD vGS - vDS 因此 vDS?→iD 线性 ? 若 vDS ?→则 vGD ?→ 近漏端沟道? → Ron 增大。 此时 Ron ?→iD ? 变慢 vDS 对沟道的控制 假设 vGS 一定 N G S D + vGS P + P + vDS + - 此时 W 近似不变 即 Ron 不变 当 vDS 增加到使 vGD ? VGS off 时 → A 点出现预夹断 若 vDS 继续?→A 点下移 → 出现夹断区 此时 vAS vAG + vGS -VGS off + vGS 恒定 若忽略沟道长度调制效应,则近似认为 l 不变 即 Ron不变 。 因此预夹断后: vDS ? →iD 基本维持不变。 N G S D + vGS P + P + vDS + - A N G S D + vGS P + P + vDS + - A 利用半导体内的电场效应,通过栅源电压vGS的变化,改变阻挡层的宽窄,从而改变导电沟道的宽窄,控制漏极电流 iD。 JFET 工作原理: 综上所述,JFET 与 MOSFET 工作原理相似,它们都是利用电场效应控制电流,不同之处仅在于导电沟道形成的原理不同。 若考虑沟道长度调制效应,则iD略有增大。 NJFET 输出特性 非饱和区 特点: iD 同时受 vGS 与 vDS 的控制。 条件: vGS VGS off v DS vGS – VGS off 伏安特性曲线 线性电阻: iD/mA vDS /V O vDS vGS – VGS off vGS 0 V -2 V -1. 5 V -1 V -0. 5 V IDSS 是vGS=0 ,vDS= -VGS off 时的漏极电流 饱和区 放大区 特点: iD 只受 vGS 控制,而与 vDS 近似无关。 iD/mA vDS /V O vDS vGS – VGS off vGS 0 V -2 V -1. 5 V -1 V -0. 5 V 数学模型: 条件: vGS VGS off vDS vGS–VGS off 在饱和区,JFET 的 iD 与 vGS 之间也满足平方律关系,但由于 JFET 与 MOS 管结构不同,故方程不同。 截止区 特点: 沟道全夹断的工作区 条件: vGS VGS off iG ? 0,iD 0 击穿区 vDS 增大到一定值时 ? 近漏极 PN 结雪崩击穿 iD/mA vDS /V O vDS vGS – VGS off vGS 0 V -2 V -1. 5 V -1 V -0. 5 V ? 造成 iD 剧增。 vGS 越负? 则 vGD 越负 ? 相应击穿电压 V BR DS 越小 JFET 转移特性曲线 同 MOS 管一样,JFET 的转移特性也可由输出特性转换得到。 iD 0 时对应的 vGS
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