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- 2017-02-14 发布于湖北
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同理,上式两边对VDS1求导,就可求得在IDS1=(VDS3-Vth)/R时,Io的值为最大,且其最大值为: 因此,当IR取为(VDS3-Vth)/R时,其输出电流由M1与M3的宽长比之比、电阻R及M3的过驱动电压决定,而与电源电压无关。 该电流源具有很高的电源抑制比。且当IR稍偏离nVT/R时,输出电流值Io仍可几乎保持不变。 同理,该电路的一个主要缺点就是电阻R随工艺及温度变化较明显,因此必须考虑温度及工艺对输出电流Io的影响。 所有的MOS管都工作在饱和区,并且假设M3的宽长比为M1的K倍 。 根据KCL定理有: 且有: 根据饱和萨氏方程,则有: 求解上式可得: 如果ΔVth很小,则上式可简化成: 而根据有关跨导的定义,可求得其负载管的跨导为: 由上式可以看出输出电流与电源电压几乎无关,是一高电源抑制的电流源。 并且可以看出该电路的负载管的跨导为一常数,因此又称为恒定跨导gm的电流源。 当然该电路的缺点是电阻R的温度系数与工艺偏差会影响gml,为了减小电阻R的影响,对该电流源可进一步改进成: 1 、把电阻R接到M4的源极以避免体效应。 2 、电阻R可用开关电容电阻实现,可以得到较高的精度和调谐能力,但这需要另加时钟与电容。 * 另外,根据第二章的所介绍的知识可知,由于在实际工艺制作MOS管时,其漏源区存在边缘扩散效应,其用作沟道的长度实际上小于版图中所画的长度(L’ LDR
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