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抛光常见疪病及克服方法
抛光常见疪病及克服方法
第一页
印迹:
抛光模与镜盘吻合不好出现油斑痕迹。
玻璃化学稳定性不好。
水珠、抛光液、口水沫等未及时擦拭干净。
克服方法:
选用合适的抛光胶,修刮或对改(聚氨脂)抛光模使之吻合。
抛光中产生的印迹可以选择用适当的添加剂,而完工后产生的印迹可以用保护漆。
避免对工件讲话,如下盘擦不干净的要擦干净,对化学稳定性不好的要烘干。
光圈变形:
粘接胶粘接力不适。
光圈未稳即下盘。
刚性盘加工时,刚盘使用时间较长未检测(沉孔变形或脏)
刚性盘加工时被加工工件外圆偏大,上盘方法不当等
克服方法:
光圈变形主要发生在较薄的零件或不规则的零件,应采用适当的上盘方法。
应按工件的大小给予一定的光圈稳定时间。
刚盘定期进行检测和修正。
严格按工艺和上盘操作规程加工。
麻点:
精细磨时间、抛光时间不够。
精细磨面不均匀或中间与边缘相差大。
有粗划痕抛断后的残迹。
方形或长方形细磨后塌角。
零件在镜盘上由于加工造成走动。
精细磨面形误差太大,尤其是偏高,易造成边缘抛光不充分。
抛光模加工时间过长或抛光液使用时间过长而影响抛光效率。
克服方法:
精细磨应除去上道砂眼,抛光时间要足够长。
精细磨光圈匹配得当,应从边缘向中间加工
发现后应当作出标识单独摆放或重抛。
用开槽平模细磨、添加砂要均匀。
选用适当的粘接胶,控制工序温度和镜盘温度,粘接胶厚度应符合标准。
精细磨各道光圈匹配应严格按操作指导卡操作。
更换抛光皮及抛光液的各项指标(比重、PH值等)周期性的管理。
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