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- 2016-11-03 发布于湖北
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* * * * * 各种不同的带电载流子的流动,定义了各种特殊的电流。 根据一些因素,用这些定义来计算电路增益。 * 前面理想情况下讨论的是均匀掺杂、小注入、发射区和基区宽度恒定、禁带宽度为定值、电流密度为均匀值、所有的结都在非击穿区的晶体管。 * VBE增加,可能出现注入的少子浓度接近或大于多子浓度,多子浓度将会增加。 * 第十二章 双极晶体管 第十二章 双极晶体管 * (2)其他工作模式 (a)截止:B-E结,B-C结均反偏,空间电荷区边界少子浓度均为零。 (b)饱和:B-E结,B-C结均正偏,空间电荷区边界存在过剩少子。 * 反向有源区:B-E结反偏,B-C结正偏。 与正向有源区中的发射极、集电极电流反向。 由于B、E区相对掺杂浓度和B、C区相对掺杂浓度不同,非几何对称,两者的特性大不相同。 第十二章 双极晶体管 * 12.3 低频共基极电流增益 npn型晶体管,正向有源区,粒子流密度和粒子流成分 从发射区注入到基区中的电子流 到达集电区的电子流 从基区注入发射区的空穴流 正偏B-E结空间电荷区复合电子流 反偏B-C结空间电荷区产生空穴流 B-C结的反向饱和电流 基区复合时需要补充的空穴流 第十二章 双极晶体管 * 流入基区补充因复合而消失 的空穴流 发射区x′=0处少子空穴扩散电流 正偏B-E结中载流子复合电流 基区x=0处少子电子扩散电流 基区x=xB处少子电子扩散电流
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