スパッタ製膜における 厚分布の圧力依存性.pptVIP

スパッタ製膜における膜厚分布の圧力依存性 成蹊大学工学部 中野武雄、馬場　茂 背景(1) スパッタ製膜プロセスでは粒子の輸送過程が複雑で、膜厚分布の予想は簡単でない。 ターゲットから飛び出した粒子は数eVの高いエネルギーを持つ。 これはガスの熱運動より充分大きいため、スパッタ粒子はガスと衝突し、減速されつつ弾道的に輸送される。 雰囲気のガスとの速度差がなくなると、拡散的な輸送に移行する。 背景(2) 熱中性化するまでの移動距離は、雰囲気のガス圧力や、スパッタ原子とガス分子の質量の関係によって変化する。 e.g.: Throwing Distance (熱中性化距離) Al: 5.9 Pa cm Cu: 8.3 Pa cm Mo: 11.7 Pa cm 弾道的な輸送から拡散的な輸送へ移り変わる圧力領域で、膜厚分布にどのような影響が現われるかを調べた。 実験装置 膜厚モニタ: 水晶振動子型 (Inficon 社製) Center: 対称中心 Edge, Back: 中心から28mm ターゲット径: 50mm エロージョントラック: φ10～28mm (最深部 φ22mm) チャンバー内径: 210mm スパッタ条件 ターゲット: Al(27), Cu(63.5), Mo(96) 放電ガス: Ar(40) ()内の数値は質量数 ガス流量: Ar 10 sccm ガス圧力: