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扩散氧化工艺原理 圆片部 扩散班-刘磊石 扩散工艺原理 扩散原理 扩散运动是一种微观粒子的热运动，只有存在浓度梯度时，这种热运动才能形成。扩散运动其实是十分复杂的运动，只有当杂质浓度和位错密度低时，扩散运动才可以用恒定扩散率情况下的菲克扩散定律来描述为： J（x，t）=-D×dN(x,t)/dx 式中 J—单位时间内杂质原子扩散量； 式中 dN(x,t)/dx—杂质浓度梯度（即沿x方向杂质浓度变化率） D—杂质扩散系数 扩散系数D是描述杂质扩散运动快慢的一个物理量，它与扩散温度、杂质种类、扩散气氛、衬底晶向等多种因素有关。负号表示扩散方向与浓度增加方向相反，即沿着浓度下降的方向。 在此说明一下，上式是假定在一维空间中，即J只是x和t的函数。 扩散方程 恒定表面浓度扩散---余误差分布 N(x,t)=N0erfc x/2(Dt)1/2 　　　　　　恒定表面源扩散的杂质分布 扩散方程 有限源表面浓度扩散---高斯分布 N(x,t)=Q/(ΠD’t’)1/2e-x2/4D’t’　 　　　　　　Q---表面杂质总量 　 　　　　　　有限表面源扩散的杂质分布 扩散方法 　扩散方法多种多样，生产上常用的有以下几种方法： 液态源扩散 固态源扩