磁控濺射技术在光敏化电池上的应用.docVIP

生态能源和材料科学与工程 (EMSE2012) 采用射频磁控溅射技术实现染料敏化光电池阻挡层的沉积 Youl-moon sung* 庆星大学电气工程学院，釜山608-736，韩国 摘要 用染料分子/电解质（i-/i3）对已使用透明可导电的掺氟二氧化锡（FTO）染料敏化电池附着玻璃/多孔TiO2层/镀Pt的FTO玻璃结构。在这项工作中，之前的纳米多孔二氧化钛层上的FTO玻璃去，其致密层小于100nm的Tio2作为电子阻挡层直接用（RF）磁控溅射技术沉积在FTO的涂层上。在用AM低于1.5100mW/cm^2的照射时，能量转换效率所制备的DSC，其厚度达到60nm的电子阻挡层为6.77%(VOC=0.715V,JSC=12.932mA/cm^2时，FF=0.74)这比没有电子阻挡层的普通电池增加了1.27%。 关键词：阻挡层，染料敏化太阳能电池，射频磁控溅射，纳米多孔膜，二氧化钛 1引言 染料敏化太阳能电池（DSCS）自被发现以来就被人们深入研究。目前在DSC领域人们对使用新一代能量收集装有着极大的兴趣，是因为它有着简单的结构和工艺，低成本的制造，透明度，颜色控制和适用性灵活的DSCS[2-4]。 DSCS包含一个宽能带隙的纳米多孔金属氧化物膜，例如在二氧化钛上沉积导电氧化物层作为电子传输层。纳米多孔二氧化钛常用于DSC的嵌入染料分子的高密度吸附到TiO 2表面以增强光吸收。一般的DSC光电阳极是由染料附着就是将纳米多孔二氧化钛薄膜涂敷在透明导电掺氟二氧化锡（FTO）玻璃等表面上。大量的包裹TiO2纳米粒子的染料分子增加了表面积实现高效捕光。然而，电子/电荷在纳米颗粒的电子捕集层的传输性能受限于某一因素。由于二氧化钛层的多孔结构在FTO玻璃和TiO 2纳米颗粒之间的界面上几乎是暴露给电解质。在FTO层的电解质上电子的反向传输发生泄漏，因而导致电池效率降低。在DSC上的FTO电极上的电子阻挡层可以实现最少的电子泄漏。然而，实现电池高效率的弟子阻挡层所需的最佳条件没有完全弄清楚。 在这项工作中，在把纳米多孔的TiO 2涂层镀膜到FTO玻璃电极之前，先把小于100nm的致密的TiO2薄膜通过射频磁控溅射到FTO被从电解液中分离出来沉积为电子阻挡层。对用以上方法制造的DSC的各种阻挡层厚度的光生电压特性进行了实验研究，论证的重点是研究电子阻挡层的条件和电池效率的关系，其中电池效率可以通过分析其光电转换效率和电化学阻抗测量获得。 2 实验 2.1二氧化钛阻挡层的制备 图1为RF磁控溅射装置的示意图 根据报告上的方法，将二氧化钛层作为阻挡层用磁控溅射沉积在FTO玻璃。TiO2薄膜沉积到FTO玻璃时，薄膜与衬底间的射频功率维持在250w，衬底温度为300℃，同时氩气压强为3毫乇。衬底和薄膜之间的距离为100毫米，不同厚度的TiO2薄膜采用磁控溅射的沉积时间为5~20分钟不等。二氧化钛层的厚度范围一般为20~80nm。 二氧化钛薄膜的微结构和厚度可通过场发射扫描电子显微镜（FE-SEM，日立S-4300）来观察和测量。能量色散X射线光谱（EDS）和X射线光电子能谱（XPS）被用来研究二氧化钛层的沉积化学反应。 2.2纳米TiO2薄膜和电池的制造 电池的制造过程中已经在别处[6-9]进行了详细的描述。总结如下。图2为DSC的光阳极阻挡层的制造过程。厚度为0~15μm（TI-20，ENB韩国）的二氧化钛浆料用Dr. Blade法涂覆到TiO2/FTO玻璃表面作为沉积层。随后在450℃下热处理30分钟。用溶胶 - 凝胶燃烧法来生产纳米多孔二氧化钛。二氧化钛凝胶在450℃烧结温度下形成均匀的球形形态的纳米粒子，纳米粒子直径约为15nm。制备的纳米多孔二氧化钛电极的有效面积为25平方毫米（5mm×5mm的）。染料（N719）在叔丁醇/乙腈溶液的二氧化钛光阳极处在25℃下吸附浸渍48小时。 用铂溅射的FTO玻璃做电极和被染料吸附的TiO 2光阳极组装成光电池。两个电极用25微米的Surlyn来分离，然后加热密封。电解质充满整个内部空间和密封有Surlyn和盖玻璃的钻孔。为了揭示二氧化钛阻挡层对光伏性能的影响，利用电化学阻抗分析仪（IM6，ZAHNER EIA）测定阻抗分布和DSC的制造转换效率和用太阳模拟器(XES-301S+EL-100; SAN-EI ELECTRIC)分别。 3. 结果和讨论 图3为SEM横截面图像和在300℃的衬底温度下用溅射法溅射15分钟制备的TiO2/FTO玻璃的轮廓，在这个实验中二氧化钛层的厚度分别为20 40 60 80纳米的沉积时间为5 10 15 20 。堆积比为4纳米/分钟。形式均匀地TiO 2层和支持层的厚度和淀积时间之间的线性关系。如图3所示，在邻近于FTO顶部的钛和氧共存的区域表明TiO2单层是形成于FTO膜的表面